作者:James R. Staley,高级产品应用工程经理 摘要 为了提供正确的死区时间延迟,传统上是在控制器中内置固定的预设延迟,或通过外部元件进行一定程度的调整。这种调整需要充分考虑特定FET器件的特性,防止因过驱而造成损坏。这一调整过程可能非常耗时,而且难以准确衡量。为了优化导通和关断摆率与延迟,必须高度重视测量技术。精确的测量能够确保系统在实现最大功率输出的同时,将损耗降至最低,并有效避免
德国慕尼黑地方法院(Landgericht München I)近日就英飞凌科技股份公司(FSE代码:IFX / OTCQX代码:IFNNY)控告英诺赛科(Innoscience)关于氮化镓(GaN)技术专利侵权的一审判决中,判定英飞凌胜诉。该案的核心是英诺赛科未经授权使用了英飞凌受专利保护的氮化镓(GaN,以下同)技术。氮化镓技术在实现高性能及高能效的电源系统中发挥着关键作用,应用范围广泛涵盖可
德州仪器 (TI)(纳斯达克股票代码:TXN)近日宣布,公司基于氮化镓 (GaN) 的功率半导体已在日本会津工厂开始投产。随着会津工厂投产,加上德州仪器现有 GaN 制造产能,德州仪器的 GaN 功率半导体自有制造产能将提升至原来的四倍。 德州仪器技术和制造集团高级副总裁 Mohammad Yunus 表示:“基于在 GaN 芯片设计和制造领域数十年的专业知识,我们已成功验证了德州仪器 8 英寸