迪恩士

• 迪恩士vs盛美上海，全球半导体清洗设备双雄对决

  半导体清洗技术在先进制程中的重要性日益凸显，尤其是在亚2纳米级别的GAA FET和超高堆叠3D NAND等架构的应用中，干燥技术成为了胜负手。随着市场需求的增长，湿化学清洗凭借高选择比和高颗粒去除效率占据主导地位，预计2025年至2032年间CAGR达到9.13%。 在技术方面，超临界CO₂干燥技术和升华干燥技术被广泛讨论，前者依赖于零表面张力实现无损清洗，但设备结构复杂；后者通过固-气相变规避液相干扰，成本较低，成为重要替代方案。此外，绿色化和融合化也成为行业发展趋势，例如探索融合槽式清洗低耗材与单片清洗高精度的新方案。 在市场竞争中，迪恩士和盛美上海形成了鲜明的差异化竞争格局。迪恩士凭借成熟设备平台和精细化迭代，主打高产能、高稳定性和低成本量产优势；盛美上海则依靠原创底层物理技术，以颠覆性创新攻克先进制程难题，实现了弯道突围。两者都在向平台化设备厂商或跨行业多元化巨头升级，但在战略方向上有所不同。

  半导体产业研究

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  09/04 14:51

  半导体设备 清洗设备

  
• SCREEN：这家看起来“低调”的日本设备巨头，如何在全球半导体体系中掌握隐秘钥匙

  SCREEN作为全球领先的晶圆清洗和表面处理设备制造商，凭借其卓越的技术和服务在全球半导体行业中占据重要地位。尽管其业务相对低调，但却不可或缺，直接影响晶圆制造的质量和稳定性。随着全球半导体需求的增长，SCREEN的市场份额持续扩大，尤其是在中国和北美地区。其设备不仅满足了高端制程的需求，还适应了大规模量产和新兴封装技术的要求，成为了许多制造体系中的必备环节。因此，SCREEN不仅是技术和性能的象征，更是供应链安全和稳定性的保障。

  老虎说芯

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  2025/12/24

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