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Mask 2M74K的掩模勘误表

2023/04/25
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Mask 2M74K的掩模勘误表

该报告适用于以下产品的2M74K掩模:

  • MC9S08DZ60
  • MC9S08DZ48
  • MC9S08DZ32
  • MC9S08DZ16
  • MC9S08DV60
  • MC9S08DV48
  • MC9S08DV32
  • MC9S08DV16
  • MC9S08DN60
  • MC9S08DN48
  • MC9S08DN32
  • MC9S08DN16
  • MC9S08DE60
  • MC9S08DE32
  • MC9S08EN32
  • MC9S08EN16

掩模集由一个由版本号、字母、两个数字和一个字母组成的5字符代码进行标识,例如0J27F。所有标准设备都带有掩模集编号和日期码。

设备标记指示了制造周数和所使用的掩模集。日期编码为四个数字,前两位数字表示年份,后两位数字表示工作周。例如,日期码"0301"表示2003年的第一周。

一些MCU样品和设备带有SC、PC或XC前缀。SC前缀表示特殊/定制设备。PC前缀表示经过基本测试的原型设备。XC前缀表示设备已经测试,但在正常制造过程变化的全范围内尚未进行完全特性描述或确认。在完全特性描述和确认后,设备将以MC或SC前缀标记。

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器件型号 数量 器件厂商 器件描述 数据手册 ECAD模型 风险等级 参考价格 更多信息
MBR0540T3G 1 onsemi 500 mA, 40 V, Schottky Power Rectifier, Surface Mount, SOD-123 2 LEAD, 10000-REEL

ECAD模型

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$0.4 查看
CRCW06031R00FKEA 1 Vishay Intertechnologies Fixed Resistor, Metal Glaze/thick Film, 0.1W, 1ohm, 75V, 1% +/-Tol, 100ppm/Cel, Surface Mount, 0603, CHIP, HALOGEN FREE AND ROHS COMPLIANT

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RBO40-40G-TR 1 STMicroelectronics REVERSED BATTERY AND OVERVOLTAGE PROTECTION CIRCUIT (RBO)

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恩智浦

恩智浦

恩智浦半导体创立于2006年,其前身为荷兰飞利浦公司于1953年成立的半导体事业部,总部位于荷兰埃因霍温。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦半导体致力于打造全球化解决方案,实现智慧生活,安全连结。

恩智浦半导体创立于2006年,其前身为荷兰飞利浦公司于1953年成立的半导体事业部,总部位于荷兰埃因霍温。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦半导体致力于打造全球化解决方案,实现智慧生活,安全连结。收起

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