光掩膜_光掩膜是什么意思

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什么是硬掩膜hard mask
Hard Mask是半导体制造中的重要掩膜材料，具有高耐刻蚀性和热稳定性，在高深宽比结构、多重图案化和复杂工艺中表现出色。它常采用多层结构（如ARC+a-C+SiN）来综合满足图案转移、光学控制和刻蚀保护的需求。

韭菜笔记1907

4015

08/19 10:40

半导体制造光掩膜
光掩模技术和市场竞争格局深度分析
光掩模（Photomask）作为微电子制造领域的核心图形转移媒介，在半导体、显示面板等高科技产业中具有不可替代的战略地位。这种精密光学元件通过光刻工艺将集成电路设计图案精确复制到硅晶圆或显示基板上，其性能指标直接影响着终端产品的良率和性能。

芯科技圈

2567

08/05 10:28

光掩膜版光掩膜
市场规模接近全球六成，我国平板显示掩膜版产业仍存短板
掩膜版又称光罩、光掩膜，是光刻工艺中的关键耗材，从应用角度看，主要分为半导体掩膜版和平板显示掩膜版。随着全球显示产业进一步向中国转移，以及在高世代、高精度市场需求的带动下，2025年中国平板显示掩膜版市场规模全球占比有望超过60%。不过业内人士强调，尽管我国掩模版行业发展速度很快，但还是存在产业链断层的情况，关键原材料和设备仍被掣肘。

中国电子报

1513

2024/01/04

光掩膜版光掩膜
凸版印刷分拆成立半导体光掩膜公司
近日，全球最大的独立第三方光掩膜生产商日本凸版印刷株式会社宣布分拆旗下半导体光掩膜业务，并与投资基金 INTEGRAL合资成立一家新公司“Toppan Photomask ”。

中国电子报

153

2022/04/08

半导体光掩膜
AGC | 将扩产EUV光掩模坯，2024年达目前产能2倍
AGC株式会社旗下子公司AGC电子株式会社，决定扩大用于EUV曝光的光掩膜坯产能。且宣布该计划自2023年1月起开始生产，并将按计划逐步扩产，到2024年AGC集团的EUV光掩模坯产能将达到现在的两倍。

CINNO Research

120

2022/02/08

EUV 光掩膜

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