扫码加入

光掩膜

加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。收起

查看更多
  • 有人问HOYA光掩膜基板的制造难点是在玻璃镀膜上吗?
    HOYA 光掩膜基板的核心制造难点不仅限于玻璃镀膜,还包括超高的石英玻璃纯度、原子级均匀的多层镀膜、严格的缺陷控制与检测体系。具体来说,难点集中在合成石英玻璃的高品质、大面积功能镀膜的一致性和应力控制、以及对缺陷的精确检测与控制。此外,在 EUV 时代,多层反射镜的工程能力也是其技术高峰。
  • 豪雅HOYA:你看不见它,但所有先进芯片都绕不开它
    豪雅作为光掩膜基板市场的主导者,占据全球超过60%份额,其产品是先进芯片生产的基石。豪雅的竞争力在于其高精度、稳定的基板性能,尤其是在EUV光刻环境下,确保了芯片的高质量和高良率。尽管面临市场需求波动,豪雅凭借其深厚的技术积淀和长期积累的稳定性优势,稳固其市场地位。随着AI芯片需求的增长,豪雅进一步受益于其在高端材料领域的专精。
  • 什么是硬掩膜hard mask
    Hard Mask是半导体制造中的重要掩膜材料,具有高耐刻蚀性和热稳定性,在高深宽比结构、多重图案化和复杂工艺中表现出色。它常采用多层结构(如ARC+a-C+SiN)来综合满足图案转移、光学控制和刻蚀保护的需求。
  • 光掩模技术和市场竞争格局深度分析
    光掩模(Photomask)作为微电子制造领域的核心图形转移媒介,在半导体、显示面板等高科技产业中具有不可替代的战略地位。这种精密光学元件通过光刻工艺将集成电路设计图案精确复制到硅晶圆或显示基板上,其性能指标直接影响着终端产品的良率和性能。
    光掩模技术和市场竞争格局深度分析
  • ​市场规模接近全球六成,我国平板显示掩膜版产业仍存短板
    掩膜版又称光罩、光掩膜,是光刻工艺中的关键耗材,从应用角度看,主要分为半导体掩膜版和平板显示掩膜版。随着全球显示产业进一步向中国转移,以及在高世代、高精度市场需求的带动下,2025年中国平板显示掩膜版市场规模全球占比有望超过60%。不过业内人士强调,尽管我国掩模版行业发展速度很快,但还是存在产业链断层的情况,关键原材料和设备仍被掣肘。
    ​市场规模接近全球六成,我国平板显示掩膜版产业仍存短板