光掩膜_光掩膜资讯

7nm芯片Mask成本为什么这么贵？

7nm芯片制造中的掩模成本高昂，主要原因在于其复杂的多重图形化需求，需要数十至上百张独立的掩模。掩模制作涉及昂贵的基板、复杂的数据写入、严格的质量控制和验证过程，且随着工艺节点的进步，掩模的数量和复杂度显著增加，导致整体成本大幅上升。

TOM聊芯片智造

2090

08/06 16:51

芯片制造光掩膜

又一半导体项目，落地上海！

聚和材料宣布成立半导体事业部，投资11亿元在上海闵行建设半导体总部及PSM掩模基板生产基地，目标年产4万片高端空白掩模基板，旨在打破国外高端半导体材料垄断，填补国内技术空白。

张通社

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07/21 19:23

半导体材料光掩膜

全球半导体光刻掩模版及配套材料供应商整理（83家）

上周发布了多个前道设备供应商数据，今日更新光刻掩模版供应商统计，新增至83家。数据来源于韩国SKE（SK Siltron子公司）的空白掩模版业务（Lumina Mask）。文章提供了详细的供应商列表，并在知识星球上分享了完整数据文档。

半导体综研

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06/30 12:28

光掩膜版光掩膜

从技术路线到时间效率之争—EUV掩模版检测的双寡头之战

根据分析机构FMI和Dataintelo的数据，纯EUVEUV掩模版检测市场的增量市场规模约为$6亿至$8亿美元/年，随着TSMC、Intel和Samsung向3nm/2nm及High-NA技术迈进，该市场将以每年10%至15%的复合增长率增长，预计到2030年后将达到20亿美元。参考Lasertec的官方财报数据，其净利率可达30%，属于小规模、关键节点的高利润率领域。

半导体产业研究

3575

06/29 10:55

EUV 光掩膜版

谁在改写芯片"底片"格局？

新锐光掩模科技股份有限公司启动IPO辅导备案，聚焦高端半导体光掩膜版市场，目标填补国内空白，助力芯片产业链自主可控。公司背景强大，拥有国家大基金二期、沪硅产业等重量级股东，致力于解决国内芯片制造中的关键技术难题。面对全球市场高度集中的现状，新锐光掩模有望成为国产替代的重要力量，推动中国芯片产业链的发展与安全。

是说芯语

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06/23 23:44

光掩膜

有人问HOYA光掩膜基板的制造难点是在玻璃镀膜上吗？

HOYA 光掩膜基板的核心制造难点不仅限于玻璃镀膜，还包括超高的石英玻璃纯度、原子级均匀的多层镀膜、严格的缺陷控制与检测体系。具体来说，难点集中在合成石英玻璃的高品质、大面积功能镀膜的一致性和应力控制、以及对缺陷的精确检测与控制。此外，在 EUV 时代，多层反射镜的工程能力也是其技术高峰。

老虎说芯

903

01/19 10:26

光掩膜版光掩膜

豪雅HOYA：你看不见它，但所有先进芯片都绕不开它

豪雅作为光掩膜基板市场的主导者，占据全球超过60%份额，其产品是先进芯片生产的基石。豪雅的竞争力在于其高精度、稳定的基板性能，尤其是在EUV光刻环境下，确保了芯片的高质量和高良率。尽管面临市场需求波动，豪雅凭借其深厚的技术积淀和长期积累的稳定性优势，稳固其市场地位。随着AI芯片需求的增长，豪雅进一步受益于其在高端材料领域的专精。

老虎说芯

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2025/12/22

玻璃基板光掩膜

什么是硬掩膜hard mask

Hard Mask是半导体制造中的重要掩膜材料，具有高耐刻蚀性和热稳定性，在高深宽比结构、多重图案化和复杂工艺中表现出色。它常采用多层结构（如ARC+a-C+SiN）来综合满足图案转移、光学控制和刻蚀保护的需求。

韭菜笔记1907

4302

2025/08/19

半导体制造光掩膜

光掩模技术和市场竞争格局深度分析

光掩模（Photomask）作为微电子制造领域的核心图形转移媒介，在半导体、显示面板等高科技产业中具有不可替代的战略地位。这种精密光学元件通过光刻工艺将集成电路设计图案精确复制到硅晶圆或显示基板上，其性能指标直接影响着终端产品的良率和性能。

芯科技圈

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2025/08/05

光掩膜版光掩膜

市场规模接近全球六成，我国平板显示掩膜版产业仍存短板

掩膜版又称光罩、光掩膜，是光刻工艺中的关键耗材，从应用角度看，主要分为半导体掩膜版和平板显示掩膜版。随着全球显示产业进一步向中国转移，以及在高世代、高精度市场需求的带动下，2025年中国平板显示掩膜版市场规模全球占比有望超过60%。不过业内人士强调，尽管我国掩模版行业发展速度很快，但还是存在产业链断层的情况，关键原材料和设备仍被掣肘。

中国电子报

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2024/01/04

光掩膜版光掩膜