光掩膜

加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。收起

查看更多
  • 7nm芯片Mask成本为什么这么贵?
    7nm芯片制造中的掩模成本高昂,主要原因在于其复杂的多重图形化需求,需要数十至上百张独立的掩模。掩模制作涉及昂贵的基板、复杂的数据写入、严格的质量控制和验证过程,且随着工艺节点的进步,掩模的数量和复杂度显著增加,导致整体成本大幅上升。
  • 又一半导体项目,落地上海!
    聚和材料宣布成立半导体事业部,投资11亿元在上海闵行建设半导体总部及PSM掩模基板生产基地,目标年产4万片高端空白掩模基板,旨在打破国外高端半导体材料垄断,填补国内技术空白。
  • 全球半导体光刻掩模版及配套材料供应商整理(83家)
    上周发布了多个前道设备供应商数据,今日更新光刻掩模版供应商统计,新增至83家。数据来源于韩国SKE(SK Siltron子公司)的空白掩模版业务(Lumina Mask)。文章提供了详细的供应商列表,并在知识星球上分享了完整数据文档。
    全球半导体光刻掩模版及配套材料供应商整理(83家)
  • 从技术路线到时间效率之争—EUV掩模版检测的双寡头之战
    根据分析机构FMI和Dataintelo的数据,纯EUVEUV掩模版检测市场的增量市场规模约为$6亿至$8亿美元/年,随着TSMC、Intel和Samsung向3nm/2nm及High-NA技术迈进,该市场将以每年10%至15%的复合增长率增长,预计到2030年后将达到20亿美元。参考Lasertec的官方财报数据,其净利率可达30%,属于小规模、关键节点的高利润率领域。
    从技术路线到时间效率之争—EUV掩模版检测的双寡头之战
  • 谁在改写芯片"底片"格局?
    新锐光掩模科技股份有限公司启动IPO辅导备案,聚焦高端半导体光掩膜版市场,目标填补国内空白,助力芯片产业链自主可控。公司背景强大,拥有国家大基金二期、沪硅产业等重量级股东,致力于解决国内芯片制造中的关键技术难题。面对全球市场高度集中的现状,新锐光掩模有望成为国产替代的重要力量,推动中国芯片产业链的发展与安全。
    1766
    06/23 23:44