光掩膜版_光掩膜版是什么意思

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光掩模技术和市场竞争格局深度分析
光掩模（Photomask）作为微电子制造领域的核心图形转移媒介，在半导体、显示面板等高科技产业中具有不可替代的战略地位。这种精密光学元件通过光刻工艺将集成电路设计图案精确复制到硅晶圆或显示基板上，其性能指标直接影响着终端产品的良率和性能。

芯科技圈

2717

2025/08/05

光掩膜版光掩膜
项目落地、投产、量产！国产光罩要打“翻身仗”？
光罩又称光掩模版、掩膜版，是一种利用光蚀刻技术将图案复制到晶圆上的工具，其设计和制作需要高度精确。随着芯片尺寸不断缩小，对光罩的精度要求也不断提高。

全球半导体观察

3902

2025/07/31

光掩膜版光罩
最新：全球光刻掩模板产业链供应商汇总（76家）
光刻行业是真火！不仅光刻机火、光刻胶火，连带着光刻掩模版行业也跟着受人瞩目。相关行业活动也是层出不穷我不久前刚刚发布了一版光刻掩模版及配套材料的行业供应商信息，点击量不错。而且还有不少朋友给予我反馈，帮我修改了几个错误，还新增了一些供应商信息

半导体综研

1366

2025/05/16

光掩膜版
光刻工艺中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次讲明白！
在半导体光刻技术中，光掩模（Photo mask）是芯片制造的核心工具之一，其作用类似于传统照相的底片，通过控制光线透射或阻挡，将电路图案转移到硅片上。随着芯片制程不断微缩至纳米级，掩模技术也在持续演进。其中，

国芯制造

1.7万

2025/05/06

光刻技术光掩膜版
超精细金属掩膜版FMM实现全国产化
1月2日，我国掩膜版厂商众凌科技发布了两项成果：一是"全国产"大宽幅FMM用Invar（因瓦合金）金属薄带试量产成功，二是大尺寸OLED用G8.6 FMM产品的试量产成功。

中国电子报

1410

2025/01/06

FMM 光掩膜版

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