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行业数据:全球光刻掩模版供应商列表
在半导体制造领域,光刻工艺可以说是所有制造环节里最复杂的一道了。由此,无论是光刻机还是光刻胶都是大家关注的焦点,甚至在网络上也成为了热门话题不过相对而言,似乎光刻掩模版相关的话题热度就少了很多。其实这个领域也并不简单,在光刻掩模版及其上游供应链里也存在着大量的机会,值得行业关注
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2023/10/30
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深度丨当EUV薄膜成为“高精尖”芯片良率的关键
近20年来,EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。近几年来,随着EUV光源的不断进展,EUV掩模开始位居三大技术挑战之首,而EUV掩模最困难的环节之一就是EUV薄膜。
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