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5nm已量产，3nm还会远吗？重要性比肩光刻机的刻蚀设备——中微公司
晶圆制造设备从类别上讲可以分为刻蚀、光刻、薄膜沉积、检测、涂胶显影等十多类，其合计投资总额通常占整个晶圆厂投资总额的 75%左右，其中刻蚀设备、光刻设备、薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中最重要的三类设备。根据Gartner统计的数据，2013年至2023年，半导体前道设备中，干法刻蚀设备市场年均增速超过15%，化学薄膜设备市场年均增速超过14%，这两类设备增速远高于其他种类的设备。图|20

王兵

5803

2024/11/12

与非研究院 CVD
与科创板共同成长，中微公司迎来上市三周年
科创板开市三周年之际，作为科创板首批上市的25家企业之一的中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，上交所股票代码：688012）也已迎来上市三周年。攀登勇者，志在巅峰。

与非网编辑

251

2022/07/22

科创板 MOCVD设备
中微半导体设定十年目标，三维度打造竞争力
公司聚焦用于集成电路制造、先进封装、LED生产、MEMS制造以及其他微观工艺用刻蚀设备和MOCVD设备的研发、生产和销售。

赵元闯

79

2020/04/26

mems MOCVD设备

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