加入星计划,您可以享受以下权益:

  • 创作内容快速变现
  • 行业影响力扩散
  • 作品版权保护
  • 300W+ 专业用户
  • 1.5W+ 优质创作者
  • 5000+ 长期合作伙伴
立即加入

CVD

加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。

化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。收起

查看更多
  • 流量控制器在半导体加工工艺化学气相沉积(CVD)的应用
    薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料,比如绝缘化合物二氧化硅,半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),其中CVD工艺设备占比更高。
  • 功率SiC前景可期,现实是地主家也缺钱
    功率SiC前景可期,现实是地主家也缺钱
    8月22日,SiC(碳化硅)头部玩家Wolfspeed将氮化镓(GaN-on-SiC)射频业务出售给MACOM,出售金额为1.25亿美元。该业务最近的年收入约为1.5亿美元,是Wolfspeed(前Cree)五年前用3.45亿欧元从英飞凌收购的。看来,“地主家”也不富裕,这项预计在今年年底完成的交易资金将用于Wolfspeed碳化硅业务的扩产。值得一提的是,这并不是Wolfspeed第一次剥离业务
    3862
    2023/10/16
  • 全球半导体物理气相淀积设备供应商列表:国产厂商真心不多
    全球半导体物理气相淀积设备供应商列表:国产厂商真心不多
    在半导体制造、封装领域会用到大量的成膜设备,技术路径多样、不一而足。我个人一般把半导体成膜设备分为三大类:1)化学气相淀积(CVD:Chemical Vapor Deposition)- 包含ALD;2)物理气相淀积(PVD:Physical Vapour Deposition);3)其它成膜设备。
    4032
    2023/10/01
  • 又一公司CVD设备发货,国产化到哪步了?
    又一公司CVD设备发货,国产化到哪步了?
    7月16日,微导纳米发布官方消息,公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。微导纳米的iTronix®系列CVD薄膜沉积设备,主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅等不同种类薄膜,可应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件以及化合物半导体等领域芯片制造。
  • 除了光刻机,哪类设备国产替代空间最大?
    除了光刻机,哪类设备国产替代空间最大?
    半导体产业链环节多且复杂,尤其是上游半导体设备和材料,因制造流程繁多,涉及到很多细分行业。根据WSTS数据,中国半导体元器件市场在全球占比高达43%,而同期SEMI数据,中国半导体设备销售额296亿美元,全球占比29%,中国半导体设备市场规模全球占比低,相比与元器件市场非常不匹配。 近期A股市场,以中微公司为代表的半导体设备公司表现异常抢眼。本文将梳理本土半导体设备厂商的竞争格局,定量感受本土厂商