N沟道MOSFET

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  • SM18N20C 220V N 沟道 MOSFET TO-220-3L
    在开关电源、UPS、功率因数校正(PFC)等电力电子领域,MOSFET 作为核心开关器件,其性能直接决定了整机的效率、可靠性与成本。长期以来,IRF640 作为一款经典的 200V N 沟道 TO-220 封装 MOSFET,被广泛应用于各类中高压电源场景。但随着技术迭代与市场对性能要求的提升,工程师们开始寻求更高效、更可靠的替代方案。今天,我们就为大家介绍杰盛微(JSMICRO SEMICOND
  • JSM57N10C 100V N 沟道 MOSFET TO-220 封装
    在开关电源(SMPS)、不间断电源(UPS)、功率因数校正(PFC)等中低压电力电子系统中,MOSFET 作为核心开关器件,其性能直接决定了整机的效率、可靠性与成本。长期以来,IRFR3410 作为一款经典 100V N 沟道 MOSFET,在市场中应用广泛,但随着终端设备对大电流、低损耗、高可靠性的需求升级,寻找性能更优、性价比更高的替代方案成为众多工程师与采购的核心诉求。 今天,我们要为大家重
  • JSM25N06 60V N 沟道 MOSFET
    对于常年和低压 MOSFET 打交道的电子工程师来说,“SI2308” 绝对是个熟悉的名字 —— 这款经典器件虽能满足基础场景需求,但随着电路功率提升、环境温度升高,其 “电流不足、损耗偏高、散热吃力” 的问题逐渐凸显,再加上进口器件的供货波动,不少项目都卡在了 “选型替换” 这一步。 今天要给大家推荐的,正是杰盛微(JSMSEMI)针对这些痛点推出的JSM25N06 N 沟道 MOSFET:不仅
  • 杰盛微JSM2302 N 沟道 MOSFET 赋能低功耗电子设计!
    在当下电子行业,供应链波动、原厂器件供货紧张等问题,时常让硬件研发与采购团队陷入 “寻替代” 的困境。尤其是在低功率 DC-DC 转换、电池管理等关键领域,IRS2302 作为常用的 N 沟道 MOSFET,其供应稳定性直接影响项目进度。而杰盛微(JSMSEMI)自主研发的JSM2302,凭借与 IRS2302 高度兼容的性能、更优的电气特性及稳定的供应链,成为了众多工程师眼中的 “替代优选”。今
  • 600KHZ固定频率24V/800mA同步降压转换器具有轻载PFM节能模式
    PCD2203 是一款 3.8V-24V 的宽输入电压范围同步降压转换器,拥有 30V 输入过压保护,能够驱动 0.8A 的负载。内部集成两个低 RDSON 功率管,可减小导通损耗,提高效率。该芯片采用峰值电流模式控制,可以实现优秀动态性能,也使得外围补偿电路简单,由于开关频率固定为 600K,可以选用小尺寸电感、电容,以及小尺寸的 SOT23- 6L 封装,可以实现小尺寸的电源解决方案。具有15uA 静态工作电流与 2uA 关断电流,适用于低功耗要求的供电系统。PCD2203 具有逐周期限流打嗝的 OCP 保护,输入 OVP 以及热关断功能。
    600KHZ固定频率24V/800mA同步降压转换器具有轻载PFM节能模式
  • 40V/1A高性能小体积同步降压转换器外部只需极少元器件
    PC2201是一款采用电流模式的降压开关电源芯片。在输入电压范围为4.7V~40V的情况下, PC2201可提供高达1A的输出电流。PC2201内部集成了两个N沟道MOSFET和同步功率开关,可以在不使用外部肖特基二极管的情况下提高电源转换效率。 PC2201还采用了专利的控制方案,在轻载时将芯片切换到节能模式,从而扩展了高效率运行的范围。
    40V/1A高性能小体积同步降压转换器外部只需极少元器件
  • 全球首款!美国国家材料科学研究所(NIMS):N型导电性沟道金刚石场效应晶体管!
    近期,美国国家材料科学研究所(NIMS)团队研发了世界上第一个基于金刚石n型沟道驱动的金属氧化膜半导体场效应晶体管(MOSFET)。该成果对于以普通电子器件IC为代表的单片集成化(在一个半导体基板内集成多个器件),实现其耐环境型互补式金属氧化膜半导体(CMOS)集成电路。该研究进展以“High-Temperature and High-Electron Mobility Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors Based on N-Type Diamond”为题发表在Advanced Science上。这也为金刚石在功率电子学中的应用迈出重要的一步提供了证据。
    全球首款!美国国家材料科学研究所(NIMS):N型导电性沟道金刚石场效应晶体管!
  • mos管n沟道和p沟道的区别
    MOS管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)是一种重要的半导体器件,被广泛应用于电子电路中。MOS管根据其沟道类型可以分为N沟道和P沟道两种类型。
  • n沟道mos管和p沟道mos管如何区分 n沟道和p沟道导通条件
    在mos管中,每个晶体管都有一个栅极、漏极和汇极。而沟道是指栅极和源极(或漏极)之间形成的导电途径。n沟道mos管和p沟道mos管之间最大的区别在于沟道中注入的掺杂物不同。n沟道中掺杂的是与硅原子电子数量相比较少的杂质(如磷),而p沟道中掺杂的则是与硅原子电子数量相比较多的杂质(如硼)。

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