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检测与分析领域的领军企业——珀金埃尔默，日前携其最新的半导体行业解决方案亮相 SEMICON China 2020。分析检测做为半导体芯片生产必不可少的“眼睛”，承担着芯片质量控制和工艺改进中沾污监控的重要职责。以创新见长的技术型企业珀金埃尔默，在本次展会上重磅推出了其最新款 NexION 5000 ICP-MS（电感耦合等离子体质谱仪），具有业内首创的化学高分辨多重四极杆设计，为半导体工业中痕量和超痕量无机元素检测再添利器。
“凭借过往 37 年在 ICP-MS 领域的技术积累以及半导体行业的精深耕耘，从满足和解决客户的需求热点和痛点出发，珀金埃尔默开发出基于第三代碰撞反应技术的无机元素分析利器——化学高分辨多重四极杆 ICP-MS ——NexION 5000，用于半导体行业无机元素与纳米颗粒检测，可满足行业日益严苛的工艺质控要求，同时寄希望与客户共同促进行业整体检测水平的提升。”珀金埃尔默应用市场业务高级产品经理朱敏在接受《中国集成电路》采访时表示。
据了解，半导体芯片生产中所涉及的化学分析与检测内容，主要包括无机元素与离子、有机气态分子污染物（AMC）以及颗粒等，检测样品涵盖晶圆、电子化学品、电子特气和靶材等。
NexION® 5000 多重四极杆 ICP-MS
NexION 5000 拥有四组四极杆组成的多重四极杆 ICP-MS 质谱平台，通过各四极杆的不同质量分辨能力和工作模式，结合碰撞反应池技术，实现化学高分辨，获得强劲干扰消除。同时 NexION 5000 继承了珀金埃尔默 NexION 系列 ICP-MS 得到验证的可靠设计与技术，并结合前沿新技术，如 OminRing 技术，确保获得超低背景等效浓度和优异检测能力，能实现出色的基体耐受性、稳定性和可靠性，便捷地实现无机基质到有机基质，酸性溶液到碱性溶液的切换分析。以化学品硫酸中较难分析的钛（Ti）和锌（Zn）等元素检测为例，NexION 5000 在轻松满足 SEMI Grade 5 对化学品杂质的要求之外，还可以进一步缩短检测时间。传统方法的分析周期为 15-20 分钟左右，而珀金埃尔默在满足分析性能的情况下，检测时间缩短一倍，更关键的是，硫酸腐蚀性强，对仪器的皮实耐受性有很高要求，NexION 5000 在合作实验室长时间的运行中已得到验证，始终保持极高的稳定性和可靠性。
“珀金埃尔默是业界著名的诊断和分析解决方案提供商，其产品在环境、工业、制药、食品等众多市场都获得了很大的认可，半导体领域自然也不例外。”朱敏介绍说。早在 1983 年，珀金埃尔默就推出世界上第一台商用的 ICP-MS，其带有动态反应池（DRC）的 Elan DRC II ICP-MS 在半导体行业获得了极大的成功，赢得客户的广泛认可。
“该仪器依托反应池技术，利用池内可控的反应技术消除质谱干扰，从而实现半导体行业要求的极低检出能力和出色稳定性，让我们期待 NexION 5000 在助力半导体行业发展方面的出色表现。”
珀金埃尔默应用市场业务高级产品经理朱敏
朱敏对未来在半导体行业的发展十分有信心，他表示目前 NexION 5000 在全球范围内已经拥有了一批客户群体。NexION 5000 在耐受性、干扰消除能力和易用性方面都非常突出，性能全面优于现有高分辨 HR-ICP-MS、传统三重四极杆和单四极杆 ICP-MS。例如，目前集成电路行业金属杂质的检测主要挑战来自于两方面，一是对常见样品的分析能力，包括检出能力和该检出能力实现的难易程度与可靠性，另一方面就是一些新兴需求的解决方案，如在线化学品、气体直接进样等。珀金埃尔默 NexION 5000 能有效地解决常规样品分析中存在的不足和难点，对于新兴的客户需求，珀金埃尔默也积极开发对应的方案，如气体直接进样技术，目前该技术也已应用在该领域欧美龙头企业中。
全面解决方案助力半导体行业精益求精
半导体是珀金埃尔默应用市场业务近年来重点关注的领域之一，结合其在分析与检测领域的强大技术优势，珀金埃尔默的半导体行业解决方案涵盖半导体行业无机元素与纳米颗粒检测方案、有机物检测方案以及材料表征方案。
对于客户来说，仪器的售后服务是重要的考虑因素。珀金埃尔默一直以来非常重视客户的使用体验，例如针对半导体无机元素分析，开发了一系列半导体常见化学品和硅基样品的标准操作流程，涵盖仪器使用与调谐，样品前处理细节，分析方法，典型性能呈现等多方面，并成立了针对半导体行业的专属售后服务团队，从而让客户更好地利用仪器，满足其测试与检测需求。
国内半导体产业近年来发展迅猛，国家和半导体产业界也在持续加大投入，对此朱敏表示，行业的发展需要各参与方的积极努力，珀金埃尔默将倾听更多的客户声音，利用其在分析仪器领域的专注与技术发展，推出更多、更好的产品和解决方案，与客户携手促进行业发展。
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