光刻机_光刻机资讯

ASML凭借技术创新和生态系统整合，成功垄断了全球EUV光刻机市场，成为半导体行业的关键力量。尽管面临美国的封锁和技术壁垒，中国也在积极自主研发，寻求突破。

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12/02 09:25

光刻机 ASML

光刻机使用准分子激光器，主要依靠惰性气体（Ar、Kr）和卤素气体（F₂）放电形成激光。不同波长的光源对应不同的气体混合体系，如KrF激光器使用0.3% F₂ + 15% Kr + 84.7% He，ArF激光器使用0.4% F₂ + 20% Ar + 79.6% He。这些气体组合不仅满足形成准分子激光的条件，还影响放电均匀性和激光能量输出。

TOM聊芯片智造

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11/19 10:51

光刻机

荷兰专家感叹：中国囤积ASML光刻机不是防御，而是为一场“技术长征”提前备粮

荷兰专家提出，中国大规模采购ASML光刻机并非防御性囤货，而是为了长远的技术自给自足和技术进步做准备。这种策略不仅反映了对未来技术竞争的预期，也体现了中国政府在半导体领域的战略规划和投资决心。

芯火相承

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11/13 09:53

光刻机

70亿！光刻机新晋独角兽诞生，挑战ASML，还要建晶圆厂

Substrate是一家美国芯片设备创企，刚获1亿美元融资，估值超10亿美元，推出新型先进X射线光刻技术，声称可与ASML高NA EUV机器媲美，达到2nm半导体节点分辨率。团队约50人，主要目标是降低成本，计划在美国建自有晶圆厂网络，未来几年内投入生产。

芯东西

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11/03 09:50

光刻机

挑战ASML！这家美企要用X射线造芯，成本降低90%！

Substrate是一家新兴的光刻设备制造商，开发出一款使用X射线光源的光刻机，有望与荷兰ASML的High NA EUV光刻机竞争。该光刻机成本更低，有望大幅降低尖端制程芯片的制造成本。Substrate计划在美国重建半导体制造能力，对抗中国在半导体领域的崛起。

芯智讯

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11/01 10:25

光刻机光刻设备

超精密尖端装备的珠穆朗玛峰-光刻机有哪些核心难点？与海外大厂差距深度剖析

光刻机被誉为半导体制造的关键装备，全球市场呈现寡头垄断局面，主要由ASML、Nikon和Canon三家主导。光刻技术的发展历程经历了多个波长阶段，最终EUV光刻技术成为推动摩尔定律的关键。光刻工艺复杂，涉及多个掩模层和曝光步骤，每一代技术进步都伴随着最小特征尺寸的减半。光刻机的核心难点在于极紫外光的生成、光学系统的精确对准和高精度镜片的制造。

芯科技圈

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10/31 14:51

光刻机

新凯来，不止光刻机

深圳市新凯来技术有限公司成立于2021年，专注于半导体装备及核心零部件的研发、制造与服务，具有“国家队”属性。公司计划在2025年前推出一系列半导体设备，并希望通过全产品线协同和关键节点单点突破，缩小与国际领先企业的差距。面对国际巨头的竞争，新凯来采取了差异化战略，强调国产替代和全产业链布局，力求在关键技术领域取得突破。

夏珍

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10/28 16:16

与非观察半导体设备

台积电拒绝天价光刻机

台积电拒绝购买昂贵的ASML High-NA EUV光刻机，转而采用多重曝光技术进行芯片制造，展示了先进制程的另一种可行路径。

芯火相承

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10/27 15:38

台积电光刻机

光刻机之王：中国市场降温，存储成关键增长引擎

2025 年 10 月 15 日，全球光刻机领域的绝对龙头 ASML 交出第三季度成绩单。这份财报中，既有整体业绩的稳健增长，也暗藏区域市场的分化信号，而存储行业的强势复苏，正成为对冲不确定性、拉动增长的核心力量 —— 正如 ASML 总裁兼首席执行官傅恪礼所言：“第四季度的表现将非常强劲，2025 全年净销售额预计增长约 15%，这背后离不开市场需求结构的积极变化。”

是说芯语

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10/17 13:48

光刻机 ASML

全球首台！ASML新一代光刻机发货

ASML发布全球首台TWINSCAN XT:260光刻机，大幅提升生产效率并进军先进封装光刻领域；同时宣布与Mistral AI合作，将AI融入光刻生态系统，推动智能化光刻技术发展。此外，高NA EUV光刻机确认收入，彰显ASML在芯片制造中的主导地位和技术优势。

芯火相承

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10/16 10:59

光刻机 ASML

一台设备卖2亿欧！ASML利润神话还能撑多久？

ASML作为全球领先的光刻机制造商，凭借其独家的EUV光刻技术成为芯片制造的关键供应商。尽管面临全球半导体行业的变化和挑战，ASML通过强大的生态系统和技术优势维持了其市场地位。然而，随着市场需求的变化和新技术的挑战，ASML正面临新的考验，尤其是其下一代高风险技术High-NA EUV光刻机的商业化前景充满不确定性。

芯火相承

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10/16 10:58

光刻机 ASML

工程师聊DUV光刻机和EUV光刻机的区别

DUV光刻机使用短波长激光，在空气中和水中进行精细加工，依赖于光学系统和产线经验来保证稳定性。EUV光刻机采用锡等离子体产生极紫外光，工作环境要求极高真空，需要克服光路损耗和污染风险。两者的主要区别在于光源、光路和掩模的不同，EUV面临更高的物理极限和技术挑战，需要全面系统的优化才能稳定运行。

老虎说芯

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10/15 10:38

光刻机 EUV光刻机

全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）崛起密码：Cymer与Brion的协同创新传奇

ASML通过收购Cymer和睿初科技，整合了EUV光源技术和计算光刻技术，实现了极紫外光刻技术的重大突破，巩固了其在全球高端光刻机市场的领先地位。面对技术瓶颈和市场竞争压力，ASML凭借全球协同创新的生态系统，持续推动技术创新，应对未来的挑战。

半导体产业研究

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10/09 10:50

光刻机

半导体光刻机风起云涌：大厂加单，俄罗斯发力

在半导体产业里，光刻机作为上游设备领域的代表性产品，对产业发展起着决定性作用，是推动芯片制程进步、引领行业发展的关键力量。近期，半导体光刻机领域动作不断，英特尔和三星等大厂提高了光刻机订单量；与此同时，俄罗斯公布了光刻机研发路线图，旨在推动本土芯片产业发展。 01、两家半导体大厂提高光刻机订单量根据外媒Techpowerup报道，近日光刻机龙头ASML表示，根据目前的订单信息和需求，预计2027

全球半导体观察

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09/29 17:50

半导体设备光刻机

CET供配电异常信息捕捉及故障诊断分析系统守护工业“生命线”

在半导体行业，毫秒级电压暂降可致洁净车间高价值光刻机骤停，造成巨大经济损失；在石化行业，生产连续性要求高，谐波污染加速设备老化，易引发连锁故障导致停产；在冶金行业，大型设备启停频繁，谐波与电压暂降多发，系统层级多、电能质量治理复杂，广域分析面临同步难、定位难等挑战；在汽车制造行业，变频器密集运行产生谐波干扰，影响机器人流水线稳定，高交付要求下停产损失巨大...... 工业供配电系统的稳定性，早已成

深圳市中电电力技术股份有限公司

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09/26 11:02

机器人变频器

光刻机，国产替代势不可挡

光刻机作为芯片制造的关键环节，决定芯片精度，是我国芯片产业发展的重要瓶颈。全球高端光刻机市场主要由荷兰ASML垄断，中国面临严重依赖进口的局面。尽管中国在光刻机研发上有一定进展，但仍需克服诸多技术和供应链难题。面对外部限制和技术封锁，国产光刻机的研发已成为国家战略任务，未来有望实现全面自主可控，推动中国芯片产业高质量发展。

芯火相承

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09/24 10:16

国产替代光刻机

国产光刻机，还有多远

国产光刻机进入测试阶段，标志着中国在高端制造领域取得阶段性胜利，增强了科技自立自强的信心。虽然与国际领先水平仍有差距，但国产光刻机的成功只是开端，未来还需持续攻关和突破。

芯火相承

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09/18 09:51

光刻机

半导体设备行业“热”背后的冷思考

光刻机、离子注入机…这些关键设备国产化率仍不足5%。

夏珍

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09/12 08:24

与非观察半导体设备

在Fab中，光刻机有哪些种类？分别应用在什么节点？

在半导体制造中，光刻机是 “芯片之母”，其性能决定芯片制程精度与集成度。按曝光机制，光刻机主要分为直写光刻、接近接触式光刻、光学投影光刻（含 i-line 光刻）及浸没式光刻四类，支撑不同层级半导体生产需求。

国芯制造

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09/09 11:05

光刻机

光刻机之外，中国半导体最缺什么？

提到中国半导体的卡脖子问题，几乎所有人的第一反应都是——光刻机。ASML的极紫外（EUV）光刻机像是一把高悬的达摩克利斯之剑，让人们不断联想到命门、封锁、追赶。但如果我们只把焦点放在光刻机上，可能会忽略一个更大的事实：半导体是一条环环相扣、极度复杂的产业链，任何一个环节掉队都可能拖慢整体进度。那么，光刻机之外，中国半导体最缺的是什么？一、缺的不是设备，而是体系能力半导体产业链被称为“人类工业

芯火相承

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09/03 16:05

半导体产业光刻机