光刻机_光刻机资讯

晶圆厂疯建，光刻机却卖不动了

全球晶圆厂扩产背景下，光刻机出货总量下降。ASML出货约327台，中国市场贡献最大但仍下滑。尼康和佳能合计出货约318台。中国进口光刻机数量下滑，主要需求集中在DUV光刻机。台积电拥有最多EUV光刻机，三星和Intel紧随其后。High-NA EUV光刻机将成为先进制程竞争的新焦点，预计2027-2028年大规模量产。

半导体产业纵横

849

02/14 14:36

晶圆厂光刻机

光刻机双工件台龙头，重启IPO

近日，招商证券股份有限公司向中国证券监督管理委员会北京监管局提交辅导备案报告，正式启动北京华卓精科科技股份有限公司（以下简称“华卓精科”）首次公开发行股票并上市的辅导工作。

是说芯语

404

02/14 12:07

IPO 光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON FX-101S 系列二手光刻机拆机/整机｜支持现场验机测试查证

一、引言光刻设备是显示面板制造流程中的核心基石，其性能直接决定产品的分辨率与生产良率。尼康FX-101S系列作为中高端FPD（平板显示器）曝光设备，依托尼康成熟的多镜头投影光学技术与精密定位系统，在中大尺寸显示面板生产领域占据重要地位。随着显示面板产业对中大尺寸产能扩充及成本控制需求的持续提升，尤其在4K超高清电视、高端显示器及车载显示面板产能布局优化的背景下，经过规范翻新与严格检测的二手尼康F

eefocus_4132990

267

02/09 14:29

半导体光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON FX-86SH2 系列二手光刻机拆机/整机｜支持现场验机测试查证

一、引言光刻设备是显示面板制造流程中的核心基石，其性能直接决定产品的分辨率与生产良率。尼康FX-86SH2系列作为高端FPD（平板显示器）曝光设备，依托尼康迭代升级的多镜头投影光学技术与超精密定位系统，在中大尺寸高端显示面板生产领域占据重要地位。随着显示面板产业对高端中大尺寸产能扩充及成本控制需求的持续提升，尤其在8K超高清电视、高端笔记本电脑及车载显示面板产能布局优化的背景下，经过规范翻新与严

eefocus_4132990

306

02/07 09:40

半导体光刻机

荷兰芯片专家：大概10年以后中国可以造出EUV光刻机，达到ASML目前的先进水平

在全球半导体技术激烈竞争的大背景下，一条来自荷兰的观点近日在国内科技圈引发热议：荷兰芯片专家认为，中国有望在大约10年以后，研制出可与荷兰ASML目前最先进水平相媲美的极紫外光刻机（EUV）。无论如何，这一观点本身就昭示着中国芯片技术在经历封锁与追赶后的新方向。EUV（Extreme Ultraviolet）极紫外光刻机是当前制造最先进芯片——比如5nm、3nm甚至更先进工艺节点芯片——的核心设

芯火相承

1404

02/05 14:52

半导体光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON FX-67S2 系列二手光刻机拆机/整机｜支持现场验机测试查证

一、引言光刻设备是显示面板制造流程中的核心基石，其性能直接决定产品的分辨率与生产良率。尼康FX-67S2系列作为中高端FPD（平板显示器）曝光设备，依托尼康成熟的多镜头投影光学技术与高精度定位系统，在中小尺寸高端显示面板生产领域占据重要地位。随着显示面板产业对高端中小尺寸产能扩充及成本控制需求的持续提升，尤其在智能手机、平板电脑等高端移动终端显示面板产能布局优化的背景下，经过规范翻新与严格检测的

eefocus_4132990

274

02/04 14:00

半导体光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON FX-103S 系列二手光刻机

一、引言光刻设备作为半导体制造流程中的核心基石，其性能直接决定芯片的制程精度与生产良率。尼康FX-103S系列作为入门级高性价比I线步进光刻机，依托尼康在精密光学领域的深厚技术积淀，凭借稳定的运行表现与灵活的工艺适配能力，在300nm-400nm成熟制程半导体生产中占据重要地位。随着半导体产业对成熟制程产能扩充及成本控制需求的持续提升，尤其在消费电子周边芯片、基础功率器件等生产需求激增的背景下，

eefocus_4132990

520

02/02 12:26

半导体光刻机

全球疯抢光刻机

ASML第四季度财报亮眼，新订单额超出预期，达131.58亿欧元，推动公司对2026年业绩指引上调。存储芯片成为资本开支的主要方向，EUV订单增速强劲，预示着存储周期将持续高位。尽管当前估值较高，但中短期内ASML有望继续受益于AI基础设施建设的需求。然而，需警惕未来AI成本降低的影响，可能导致设备需求放缓。

锦缎

810

01/29 14:05

AI 光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON NSR-4425i 系列二手光刻机

一、引言光刻设备作为半导体制造流程中的核心基石，其性能直接决定芯片的制程精度与生产良率。尼康NSR-4425i系列作为高性能I线步进光刻机，依托尼康在精密光学领域的深厚技术积淀，凭借稳定的高分辨率成像与高效产能输出特性，在200nm-350nm成熟制程半导体生产中占据重要地位。随着半导体产业对成熟制程产能扩充及成本控制需求的持续提升，尤其在汽车电子、工业控制芯片等高端成熟制程产品需求激增的背景下

eefocus_4132990

445

01/28 16:00

半导体光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON NSR-TFHi12 系列二手光刻机拆机/整机

一、引言光刻设备作为半导体制造流程中的核心基石，其性能直接决定芯片的制程精度与生产良率。尼康NSR-TFHi12系列作为高性能I线步进光刻机，依托尼康在精密光学领域的技术积淀，凭借高分辨率成像与高效产能输出特性，在200nm-350nm成熟制程半导体生产中占据重要地位。随着半导体产业对成熟制程产能扩充及成本控制需求的提升，尤其在汽车电子、智能传感器等高端成熟制程产品需求激增的背景下，经过规范翻新

eefocus_4132990

481

01/28 11:28

半导体光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON NSR-2205i12D 系列二手光刻机拆机/整机｜支持现场验机测

一、引言光刻设备作为半导体制造流程中的核心基石，其性能直接决定芯片的制程精度与生产良率。尼康NSR-2205i12D系列作为升级款I线步进光刻机，依托优化的5倍步进技术与广泛的工艺适配能力，在250nm-350nm成熟制程半导体生产中占据重要地位。随着半导体产业对成熟制程产能扩充及成本控制需求的提升，尤其在碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体及汽车电子元件生产需求激增的背景下，经过规范翻新与严格检测的二

eefocus_4132990

535

01/26 10:08

半导体光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON NSR-SF100 系列二手光刻机拆机/整机｜支持现场验机测试查证

一、引言光刻设备作为半导体制造流程中的核心基石，其性能直接决定芯片的制程精度与生产良率。尼康NSR-SF100系列作为早期成熟宽视场I线步进光刻机，凭借极致的运行可靠性、广泛的制程适配能力，在250nm-400nm成熟制程半导体生产中占据重要地位。随着半导体产业对成熟制程产能扩充及成本控制需求的提升，尤其在6-8英寸晶圆产线升级与补能背景下，经过规范翻新与严格检测的二手尼康NSR-SF100系列

eefocus_4132990

819

01/23 13:55

半导体光刻机

【海翔科技】尼康 NIKON NSR-SF120 系列二手光刻机拆机/整机｜支持现场验机测试查证

一、引言光刻设备作为半导体制造流程中的核心基石，其性能直接决定芯片的制程精度与生产良率。尼康NSR-SF120系列作为成熟宽视场I线步进光刻机，凭借可靠的运行稳定性、高适配性的制程覆盖能力，在180nm-350nm成熟制程半导体生产中占据重要地位。随着半导体产业对成熟制程产能扩充及成本控制需求的提升，尤其在8英寸晶圆产线紧缺背景下，经过规范翻新与严格检测的二手尼康NSR-SF120系列光刻机，成

eefocus_4132990

566

01/22 16:25

半导体光刻机

尼康NSR-SF130系列二手光刻机拆机规范及现场验机测试要点

一、引言尼康NSR-SF130系列光刻机作为半导体制造领域的经典设备，凭借其稳定的微米级曝光精度，在二手设备市场仍保有较高流通价值。该系列设备多生产于2005年前后，核心应用于中低端芯片及精密电子元件的光刻工序。二手设备交易中，拆机质量与现场验机结果直接决定设备残值与使用可靠性，需遵循高精密设备运维准则，兼顾拆装规范性与测试全面性，以规避交易风险。二、拆机流程及核心规范作为高精密半导体设备，

eefocus_4132990

677

01/22 08:25

半导体光刻机

国产光刻机大动作！上海微电子剥离资产，芯上微装接盘

国产光刻机领域发生重要股权变动，上海微电子将其核心资产转让给芯上微装，后者专注市场落地，前者继续攻克关键技术。这一举动有助于优化国产光刻机产业布局，加速高端技术研发与中低端产品市场化进程，增强半导体产业链自主可控能力。

是说芯语

5544

01/08 13:29

光刻机

上海微电子中标1.1亿元光刻机项目

上海微电子成功中标1.1亿步进扫描式光刻机订单，标志国产光刻机取得重大突破，带动张江高科股价上涨，彰显国产半导体设备市场信心。

芯通社

3142

2025/12/30

半导体设备光刻机

光刻机之王背后：弃子、联盟与铁幕

ASML凭借技术创新和生态系统整合，成功垄断了全球EUV光刻机市场，成为半导体行业的关键力量。尽管面临美国的封锁和技术壁垒，中国也在积极自主研发，寻求突破。

郭大路的小酒馆

1606

2025/12/02

光刻机 ASML

光刻机需要通入哪些气体？

光刻机使用准分子激光器，主要依靠惰性气体（Ar、Kr）和卤素气体（F₂）放电形成激光。不同波长的光源对应不同的气体混合体系，如KrF激光器使用0.3% F₂ + 15% Kr + 84.7% He，ArF激光器使用0.4% F₂ + 20% Ar + 79.6% He。这些气体组合不仅满足形成准分子激光的条件，还影响放电均匀性和激光能量输出。

TOM聊芯片智造

1052

2025/11/19

光刻机