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惠丰钻石包头CVD金刚石项目正式投产，总投资约10亿，聚焦半导体散热材料和培育钻石，预计3-5年内建成，助力我国高端应用领域发展。

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07/03 15:02

散热 CVD

惠丰钻石包头CVD金刚石产业化项目于2026年7月1日正式投产，标志着其“2245战略”全面落地，加速向金刚石高端功能材料综合服务商转型。该项目填补了公司在全国产能布局的关键空白，并推动了中国超硬材料产业的发展。随着金刚石作为国家战略材料的地位不断提升，尤其是在算力散热领域的应用前景广阔，预计未来市场规模将达到千亿级别。惠丰钻石通过四个生产基地的建设，形成了完整的产业链布局，实现了从材料供应商到方案商的战略转型，提升了国产高端算力散热材料的自主可控能力。

未来产链

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07/03 14:32

散热 CVD

超24亿元布局！瞄准PCB钻针与CVD金刚石散热

四方达拟募资20亿扩展PCB金刚石钻针产能，投资4.5亿建设CVD金刚石散热片基地，加速向半导体及AI产业链关键材料供应商转型。

DT半导体

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07/03 07:35

金刚石 CVD

四方达：拟投资4.5亿元建设CVD金刚石项目

四方达宣布将在FINE2026先进半导体展上展出其新产品，并且其子公司河南天璇半导体科技计划投资约4.5亿元建设年产2.5万片CVD金刚石项目。此外，四方达第一季度实现了营收和利润的双位数增长，表明其高端化转型取得初步成效。

DT半导体

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04/24 15:33

金刚石 CVD

【海翔科技】泛林半导体 Lam Research ALTUS 系列二手薄膜沉积CVD设备拆机/整

一、引言等离子增强化学气相沉积（PECVD）设备是先进半导体制造的核心装备，随着3D NAND存储器件堆叠层数提升及FinFET工艺节点微缩，高深宽比（HAR）结构的介质膜填充完整性与低温沉积兼容性直接决定器件良率与可靠性。泛林半导体（Lam Research）ALTUS系列设备凭借卓越的高深宽比间隙填充能力、精准的等离子体控制技术及低温工艺优势，可实现高致密性硅基介质膜沉积，广泛应用于128层

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03/31 13:26

半导体 CVD

CVD金刚石切入医疗器械，性能大幅超越蓝宝石

土耳其植发机构Vera Clinic与Appsilon Enterprise联合推出新一代手术刀产品Vector 10，采用CVD金刚石刀尖，专为毛囊单位提取（FUE）植发手术设计。第三方测试显示，CVD金刚石刀片在锋利度保持方面较传统蓝宝石刀片提升约15倍，标志着植发手术器械在材料层面的重要突破。Appsilon利用航天级精密制造标准，将CVD金刚石应用于医疗领域，展示了高端材料与精密制造技术向医疗领域的延伸趋势。

DT半导体

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03/26 21:50

金刚石 CVD

全球前道设备供应商统计：CVD、ALD（104家）

本文介绍了半导体前道设备中的主要类别及其细分类型，并提供了详细的名称解释表。作者还分享了其收集的近十年行业数据，涵盖了半导体制造上游供应链，并提供了丰富的在线半导体知识讲座和服务内容。

半导体综研

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03/10 11:33

CVD ALD

应用材料 AMAT Axcela PVD 系列二手薄膜沉积CVD设备

一、引言物理气相沉积（PVD）设备作为半导体金属化制程的核心装备，其薄膜纯度、沉积均匀性及颗粒控制能力直接决定器件互连可靠性与良率。应用材料（AMAT/APPLIED MATERIALS）Axcela PVD系列设备凭借同类最佳的膜厚均匀性、多尺寸晶圆兼容特性及低拥有成本优势，广泛应用于EMI屏蔽、背面金属化、MEMS、TSV等多种金属化应用场景。二手设备因显著的成本优势成为中小企业降本增效的重

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02/24 08:50

半导体 CVD

应用材料 AMAT/APPLIED MATERIALS 二手薄膜沉积CVD设备

一、引言化学气相沉积（CVD）设备作为半导体制造中的核心工艺设备，其性能稳定性直接决定晶圆成膜质量与生产良率。应用材料（AMAT/APPLIED MATERIALS）作为全球半导体设备领域的标杆企业，其Centura® Ultima HDP CVD®系列薄膜沉积设备凭借卓越的高密度等离子体控制能力、高深宽比填充性能及稳定的工艺重复性，广泛应用于90nm及以下节点逻辑芯片、3D NAND存储芯片的

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02/04 13:55

半导体 CVD

【海翔科技】泛林半导体 Lam Research Reliant 系列二手薄膜沉积CVD设备

一、引言化学气相沉积（CVD）设备作为半导体制造中的核心工艺设备，其性能稳定性直接决定晶圆成膜质量与生产良率。泛林半导体（Lam Research）作为全球半导体设备领军企业，其Reliant系列薄膜沉积CVD设备凭借卓越的高深宽比填充能力与低温沉积优势，广泛应用于先进逻辑芯片、3D NAND存储芯片等制造环节。二手设备因成本优势成为中小企业的重要选择，但需通过科学的拆机检测与现场验机规避性能衰

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01/28 15:55

半导体 CVD

【海翔科技】泛林半导体 Lam Research Striker® 系列二手薄膜沉积CVD设备

一、引言在半导体先进封装与高端逻辑芯片制造的薄膜沉积环节，化学气相沉积（CVD）设备是实现器件高密度集成与性能跃升的核心支撑，尤其在硅通孔（TSV）互连结构、金属间介质层及钝化层制备中发挥不可替代的作用。泛林半导体（Lam Research）作为全球半导体设备龙头企业，其Striker®系列CVD设备凭借超保形性沉积、低缺陷薄膜制备等核心优势，已成为高端晶圆厂与先进封装企业的标杆级装备，广泛应用

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01/26 15:20

半导体 CVD

【海翔科技】泛林半导体 Lam Research Striker® 系列二手薄膜沉积CVD设备拆

一、引言在半导体先进封装与高端逻辑芯片制造的薄膜沉积环节，化学气相沉积（CVD）设备是实现器件高密度集成与性能跃升的核心支撑，尤其在硅通孔（TSV）互连结构、金属间介质层及钝化层制备中发挥不可替代的作用。泛林半导体（Lam Research）作为全球半导体设备龙头企业，其Striker®系列CVD设备凭借超保形性沉积、低缺陷薄膜制备等核心优势，已成为高端晶圆厂与先进封装企业的标杆级装备，广泛应用

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01/26 10:07

半导体 CVD

CVD多晶金刚石膜全景解析：制备路线、性能决定因素与产业化挑战

多晶金刚石膜因其卓越的热导率（高达2000 W/(m・K)）成为解决高功率器件散热问题的理想材料。然而，其产业化面临三大挑战：高昂的CVD设备与运维成本、大尺寸膜的均匀性和应力管理难题，以及与现有产线的兼容性不足。目前，MPCVD、HFCVD、DC-HC CVD和DC arc jet CVD四种CVD技术各具特点，分别在不同应用场景中展现优势。优化热导率的关键在于控制晶粒尺寸、膜厚和晶面取向，并通过工艺参数调节和辅助物理场来实现。多晶金刚石膜在高功率器件中表现出色，如降低GaN HEMT器件的热阻和结温。未来的研究应集中在提高制备技术和拓展应用领域，同时深化对材料性能的基础理解。

DT半导体

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2025/11/23

半导体材料金刚石

CVD金刚石薄膜与涂层：从制备技术到应用的全景解析

在现代科技对材料性能要求日益严苛的背景下，金刚石凭借超高硬度、高热导率、宽禁带、化学惰性等优异理化特性，成为解决诸多工业瓶颈的理想材料 —— 例如传统金属刀具加工高硅铝合金、碳纤维复合材料时的 “高磨损、低效率” 问题，以及第三代半导体器件的散热难题。然而，天然金刚石资源稀缺且价格昂贵，人工合成技术成为核心方向。其中，化学气相沉积（CVD）因能制备高品质、高性能的金刚石材料，成为当前金刚石薄膜

DT半导体

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2025/09/03

金刚石 CVD

CVD工艺常用专业术语

如果说PVD是“物理搬运工”，把靶材上的原子“敲”下来再贴到晶圆上，那么CVD就是“化学建筑师”，在晶圆表面通过精确控制的化学反应来“搭建”薄膜。 CVD工艺种类繁多，是制造中应用最广的薄膜技术之一，从栅极介电层、隔离层到层间介电层（ILD）和金属硬掩模（Hardmask），无处不在。对于有3-5年经验的工程师，理解以下这些术语，能让你从“操作员”思维转变为“工艺开发者”思维。一、核心工艺参数与

老虎说芯

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2025/09/01

CVD PVD