EUV光刻机_EUV光刻机资讯

重大突破！ASML 27亿天价光刻机曝光

ASML宣布下一代High-NA EUV光刻机具备量产成熟度，售价4亿美元，预计2027-2028年大规模使用。该设备大幅提升了芯片制造精度，有助于AI芯片发展，但实际导入量产还需2-3年。随着旧时代的EUV逼近物理极限，High-NA EUV成为先进制程的关键工具，推动芯片制造向更精细方向发展。

芯火相承

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03/02 10:18

EUV光刻机

EUV光刻机，迎来重大突破！

ASML宣布在EUV光刻机光源功率上取得突破，有望大幅提升芯片制造产能，预计到2030年每小时晶圆处理能力提升约50%，助力全球芯片供应链应对市场需求激增。此技术进展巩固了ASML在EUV领域的领先地位，对未来芯片制造效率提升具有重要意义。

芯火相承

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02/27 13:20

EUV光刻机

28亿一台，全球首台High-NA EUV光刻机来袭，精度突破0.7nm

英特尔宣布全球首台商用 High-NA EUV 光刻机安装并通过验收，售价高达 28 亿元人民币。这款光刻机将大幅提高芯片制造的分辨率和套刻精度，有望推动英特尔在先进制程上的突破。尽管面临高昂的成本和技术挑战，英特尔认为这是对未来十年技术发展的关键投资。

芯火相承

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2025/12/22

EUV光刻机 High-NA

EUV光刻机的发光原理

EUV光刻采用激光等离子体光源（LPP），通过高速喷射液态锡并用高功率激光将其加热至高温等离子体状态，从而发射出具有极高能量的13.5nm极紫外光。由于该波长的光子能量极高，可以电离几乎所有元素的原子外层电子，因此不能用传统透镜或气体激光方式产生。EUV光刻机的核心光源机制称为激光等离子体光源（LPP），其基本过程包括生成锡微滴、高功率激光轰击锡微滴使其成为高温等离子体，并最终发射出特定能量的13.5nm极紫外光。EUV光无法透过任何物质，所以在真空中运行并通过多层反射镜进行收集和成像。

TOM聊芯片智造

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2025/11/18

EUV光刻机 EUV光刻

汤之上隆：台积电的竞争力，来自超150种EUV设备

台积电2025年第三季度销售额和营业利润创新高，分别达到331亿美元和167.5亿美元，营业利润率回升至50%以上。台积电的销售额主要来源于3nm和5nm制程节点，尤其是5nm和3nm节点的销售额增长显著。相比之下，7nm及以下制程节点的销售额和晶圆投入量呈下降趋势。台积电的核心业务从智能手机转向人工智能半导体，高性能计算业务迅速崛起，预计到2025年将成为最大收入来源。台积电凭借强大的EUV光刻技术优势，保持领先地位，其设备数量远超竞争对手。

半导体产业纵横

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2025/11/12

半导体设备 EUV

EUV光刻机现身美国！三大巨头你争我抢

全球三大芯片巨头台积电、三星电子和英特尔在美国展开了一场激烈的“2nm争霸战”。台积电首次公开其在美国亚利桑那州凤凰城的Fab 21工厂内使用昂贵的EUV光刻机，彰显其领先地位。三星则宣布将在美国和韩国部署高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，提升芯片制作精度。英特尔也宣布其18A工艺已进入量产阶段，并计划在未来三年内将其代工业务打造成台积电的竞争对手。这一系列动作标志着全球半导体格局正在发生重大转变，预示着一个全新的芯片时代即将到来。

芯火相承

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2025/10/27

EUV光刻机

工程师聊DUV光刻机和EUV光刻机的区别

DUV光刻机使用短波长激光，在空气中和水中进行精细加工，依赖于光学系统和产线经验来保证稳定性。EUV光刻机采用锡等离子体产生极紫外光，工作环境要求极高真空，需要克服光路损耗和污染风险。两者的主要区别在于光源、光路和掩模的不同，EUV面临更高的物理极限和技术挑战，需要全面系统的优化才能稳定运行。

老虎说芯

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2025/10/15

光刻机 EUV光刻机

阿斯麦的好日子，要到头了？

阿斯麦作为全球唯一的EUV光刻机制造商，在半导体行业中占据垄断地位，拥有强大技术实力和生态系统垄断圈。然而，由于美国出口禁令失去中国市场，并面临中国在多种技术路径上的创新挑战，其垄断地位正受到威胁。随着中国在替代技术上的突破，阿斯麦的垄断地位或将终结。

芯火相承

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2025/09/23

EUV光刻机

ASML发布2025年第二季度财报 | 净销售额77亿欧元，净利润23亿欧元

阿斯麦（ASML）发布2025年第二季度财报。2025年第二季度，ASML实现净销售额77亿欧元，毛利率为53.7%，净利润达23亿欧元。第二季度的新增订单金额为55亿欧元2，其中23亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第三季度净销售额在74亿至79亿欧元之间，毛利率介于50%至52%；预计2025年全年净销售额将同比增长约15%，毛利率约为52%。 (1) 累计装机售后服务等于净服务

与非网编辑

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2025/07/16

晶圆厂 ASML

ASML EUV光刻之路还能走多远？

虽然近期台积电高管表示，台积电接下来的A16/A14制程都不会采用ASML售价高达4亿美元的High NA EUV光刻机（具有0.5数值孔径），但是英特尔则已经决定在其下一代的Intel 14A制程上选择采用High NA EUV光刻机进行量产。与此同时，为了解决为了的1nm以下制程的制造问题，ASML正在积极的研发具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻机，这也意味着其将面临更大的技术挑战，要知道ASML花了约20年的时间才成功推动标准型EUV光刻机的规模商用。

芯智讯

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2025/06/17

EUV EUV光刻机

30亿EUV光刻机搬入！

据半导体业界3月11日报道，据悉，三星电子本月初已将ASML生产的首台高NA EUV设备“EXE:5000”引进华城园区。该设备价格昂贵，价值达5000亿韩元（24.95亿元人民币），而且全球只有ASML公司供应。

芯片说 IC TIME

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2025/03/12

EUV光刻机

日本成功引入首台ASML EUV光刻机

近日，芯片制造领域传来重大消息：Rapidus开始安装ASML EUV光刻机，成为首家接收EUV光刻设备的日本半导体公司。这一举措无疑在全球芯片产业中掀起了波澜。

全球半导体观察

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2024/12/22

ASML EUV光刻机

深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战

各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动。

AI芯天下

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2024/11/28

光刻机 EUV光刻机

为什么研发EUV光刻机那么难？

虽然表面上看，光刻机是半导体制造的工具之一，但它的背后涉及复杂的多学科交叉与全球化合作。EUV光刻机依赖于波长仅为13.5纳米的极端紫外线（EUV）光源，而这种光源的产生与控制是最大的技术挑战之一。你可以把EUV光源想象成一个非常难以控制的“灯泡”，但这个“灯泡”不仅需要在超高真空环境下工作，还必须产生极其稳定和强大的光束。任何微小的不稳定都会影响最终的成像效果。

老虎说芯

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2024/10/18

光刻机 EUV光刻机

ASML业绩“暴雷”

ASML营收额的增长势头可能将迎来急刹车。荷兰费尔德霍芬时间10月15日，ASML发布2024年第三季度财报，财报显示，2024年第三季度，ASML实现净销售额74.67亿欧元，环比增长19.6%；净利润达20.77亿欧元，环比增长31.6%，二者均创下自2021年第一季度以来的历史新高。然而，该季度新增订单金额仅为26.33亿欧元，环比减少52.7%，不及市场预期的54亿欧元的一半，接近2021年第一季度以来的历史低值（2023年第三季度新增订单金额26.02亿欧元）。

中国电子报

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2024/10/17

ASML EUV光刻机

ASML发布2024年第三季度财报 | 净销售额75亿欧元，净利润为21亿欧元

阿斯麦（ASML）今日发布2024年第三季度财报。2024年第三季度，ASML实现净销售额75亿欧元，毛利率为50.8%，净利润达21亿欧元。今年第三季度的新增订单金额为26亿欧元²，其中14亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2024年第四季度的净销售额在88亿至92亿欧元之间，毛利率介于49%到50%，2024年全年的净销售额约为280亿欧元。ASML还预计，2025年的净销售额在300亿至

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2024/10/16

ASML EUV光刻机

日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本将大幅降低！

8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。相比传统的至少需要六面反射镜的配置，新的光学投影系统仅使用了两面反射镜，在确保系统维持较高的光学性能的同时，能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆，相比传统系统中仅1%的功率来说，提了高到了原来的10倍，可说是一大突破。

芯智讯

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2024/08/12

EUV光刻机 EUV光刻