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EUV光刻机

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极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，于2019年初交货。

极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，于2019年初交货。收起

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  • ASML 2026Q2 售出了86台全新光刻系统及5台二手系统
    荷兰半导体设备巨头阿斯麦（ASML）2026年第二季度财报显示，受益于AI领域的持续投资和客户需求增加，营收与利润超出预期并上调全年业绩展望。AI需求推动逻辑和存储芯片需求增长，公司预计下半年和全年业绩进一步提升，同时宣布中长期产能倍增计划。
    2815
    07/15 14:27
    与非观察 ASML
    ASML 2026Q2 售出了86台全新光刻系统及5台二手系统
  • 绕过顶级EUV，晶圆一哥的底牌终于摊开
    台积电决定不采用High-NA EUV光刻机，而是通过自主研发的EUV光罩保护膜、GAAFET技术和协同微缩工艺，成功解决了芯片微缩的核心难题。台积电通过计算光刻、优化工艺和转移难度的方式，实现了高效可靠的芯片制造，保持了其在半导体行业的领先地位。
    1223
    05/06 10:01
    EUV EUV光刻机
    绕过顶级EUV，晶圆一哥的底牌终于摊开
  • 手把手教你如何做EUV光刻机：从锡液滴到13.5纳米光，每一步都是工程极限
    EUV光刻机因其复杂的物理和工程挑战而成为半导体行业的垄断者，其高昂的成本源于光源、反射镜、光罩和光刻胶等多个环节的高精度要求。当前主要面临能量损耗、光学元件制造难度和光刻胶灵敏度等问题。尽管如此，仍有改进空间，例如使用更高效的光源、优化反射镜设计和开发新型光刻胶，有望降低成本并提高产量。
    4241
    04/20 14:46
    ASML 光刻胶
  • 重大突破！ASML 27亿 天价光刻机曝光
    ASML宣布下一代High-NA EUV光刻机具备量产成熟度，售价4亿美元，预计2027-2028年大规模使用。该设备大幅提升了芯片制造精度，有助于AI芯片发展，但实际导入量产还需2-3年。随着旧时代的EUV逼近物理极限，High-NA EUV成为先进制程的关键工具，推动芯片制造向更精细方向发展。
    1306
    03/02 10:18
    EUV光刻机
  • EUV光刻机，迎来重大突破！
    ASML宣布在EUV光刻机光源功率上取得突破，有望大幅提升芯片制造产能，预计到2030年每小时晶圆处理能力提升约50%，助力全球芯片供应链应对市场需求激增。此技术进展巩固了ASML在EUV领域的领先地位，对未来芯片制造效率提升具有重要意义。
    1371
    02/27 13:20
    EUV光刻机
  • 28亿一台， 全球首台High-NA EUV光刻机来袭，精度突破0.7nm
    英特尔宣布全球首台商用 High-NA EUV 光刻机安装并通过验收，售价高达 28 亿元人民币。这款光刻机将大幅提高芯片制造的分辨率和套刻精度，有望推动英特尔在先进制程上的突破。尽管面临高昂的成本和技术挑战，英特尔认为这是对未来十年技术发展的关键投资。
    2306
    2025/12/22
    EUV光刻机 High-NA
    28亿一台， 全球首台High-NA EUV光刻机来袭，精度突破0.7nm
  • EUV光刻机的发光原理
    EUV光刻采用激光等离子体光源（LPP），通过高速喷射液态锡并用高功率激光将其加热至高温等离子体状态，从而发射出具有极高能量的13.5nm极紫外光。由于该波长的光子能量极高，可以电离几乎所有元素的原子外层电子，因此不能用传统透镜或气体激光方式产生。EUV光刻机的核心光源机制称为激光等离子体光源（LPP），其基本过程包括生成锡微滴、高功率激光轰击锡微滴使其成为高温等离子体，并最终发射出特定能量的13.5nm极紫外光。EUV光无法透过任何物质，所以在真空中运行并通过多层反射镜进行收集和成像。
    3572
    2025/11/18
    EUV光刻机 EUV光刻
    EUV光刻机的发光原理
  • 汤之上隆：台积电的竞争力，来自超150种EUV设备
    台积电2025年第三季度销售额和营业利润创新高，分别达到331亿美元和167.5亿美元，营业利润率回升至50%以上。台积电的销售额主要来源于3nm和5nm制程节点，尤其是5nm和3nm节点的销售额增长显著。相比之下，7nm及以下制程节点的销售额和晶圆投入量呈下降趋势。台积电的核心业务从智能手机转向人工智能半导体，高性能计算业务迅速崛起，预计到2025年将成为最大收入来源。台积电凭借强大的EUV光刻技术优势，保持领先地位，其设备数量远超竞争对手。
    1650
    2025/11/12
    半导体设备 EUV
    汤之上隆：台积电的竞争力，来自超150种EUV设备
  • EUV光刻机现身美国！三大巨头你争我抢
    全球三大芯片巨头台积电、三星电子和英特尔在美国展开了一场激烈的“2nm争霸战”。台积电首次公开其在美国亚利桑那州凤凰城的Fab 21工厂内使用昂贵的EUV光刻机，彰显其领先地位。三星则宣布将在美国和韩国部署高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，提升芯片制作精度。英特尔也宣布其18A工艺已进入量产阶段，并计划在未来三年内将其代工业务打造成台积电的竞争对手。这一系列动作标志着全球半导体格局正在发生重大转变，预示着一个全新的芯片时代即将到来。
    1203
    2025/10/27
    EUV光刻机
    EUV光刻机现身美国！三大巨头你争我抢
  • 工程师聊DUV光刻机和EUV光刻机的区别
    DUV光刻机使用短波长激光，在空气中和水中进行精细加工，依赖于光学系统和产线经验来保证稳定性。EUV光刻机采用锡等离子体产生极紫外光，工作环境要求极高真空，需要克服光路损耗和污染风险。两者的主要区别在于光源、光路和掩模的不同，EUV面临更高的物理极限和技术挑战，需要全面系统的优化才能稳定运行。
    4385
    2025/10/15
    光刻机 EUV光刻机
    工程师聊DUV光刻机和EUV光刻机的区别
  • 阿斯麦的好日子，要到头了？
    阿斯麦作为全球唯一的EUV光刻机制造商，在半导体行业中占据垄断地位，拥有强大技术实力和生态系统垄断圈。然而，由于美国出口禁令失去中国市场，并面临中国在多种技术路径上的创新挑战，其垄断地位正受到威胁。随着中国在替代技术上的突破，阿斯麦的垄断地位或将终结。
    861
    2025/09/23
    EUV光刻机
  • ASML发布2025年第二季度财报 | 净销售额77亿欧元，净利润23亿欧元
    阿斯麦（ASML）发布2025年第二季度财报。2025年第二季度，ASML实现净销售额77亿欧元，毛利率为53.7%，净利润达23亿欧元。第二季度的新增订单金额为55亿欧元2，其中23亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第三季度净销售额在74亿至79亿欧元之间，毛利率介于50%至52%；预计2025年全年净销售额将同比增长约15%，毛利率约为52%。 (1) 累计装机售后服务等于净服务
    704
    2025/07/16
    晶圆厂 ASML
    ASML发布2025年第二季度财报 | 净销售额77亿欧元，净利润23亿欧元
  • ASML EUV光刻之路还能走多远？
    虽然近期台积电高管表示，台积电接下来的A16/A14制程都不会采用ASML售价高达4亿美元的High NA EUV光刻机（具有0.5数值孔径），但是英特尔则已经决定在其下一代的Intel 14A制程上选择采用High NA EUV光刻机进行量产。与此同时，为了解决为了的1nm以下制程的制造问题，ASML正在积极的研发具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻机，这也意味着其将面临更大的技术挑战，要知道ASML花了约20年的时间才成功推动标准型EUV光刻机的规模商用。
    844
    2025/06/17
    EUV EUV光刻机
    ASML EUV光刻之路还能走多远？
  • 30亿EUV光刻机搬入！
    据半导体业界3月11日报道，据悉，三星电子本月初已将ASML生产的首台高NA EUV设备“EXE:5000”引进华城园区。该设备价格昂贵，价值达5000亿韩元（24.95亿元人民币），而且全球只有ASML公司供应。
    768
    2025/03/12
    EUV光刻机
    30亿EUV光刻机搬入！
  • 日本成功引入首台ASML EUV光刻机
    近日，芯片制造领域传来重大消息：Rapidus开始安装ASML EUV光刻机，成为首家接收EUV光刻设备的日本半导体公司。这一举措无疑在全球芯片产业中掀起了波澜。
    901
    2024/12/22
    ASML EUV光刻机
    日本成功引入首台ASML EUV光刻机
  • 深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战
    各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动。
    1299
    2024/11/28
    光刻机 EUV光刻机
    深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战
  • 为什么研发EUV光刻机那么难？
    虽然表面上看，光刻机是半导体制造的工具之一，但它的背后涉及复杂的多学科交叉与全球化合作。EUV光刻机依赖于波长仅为13.5纳米的极端紫外线（EUV）光源，而这种光源的产生与控制是最大的技术挑战之一。你可以把EUV光源想象成一个非常难以控制的“灯泡”，但这个“灯泡”不仅需要在超高真空环境下工作，还必须产生极其稳定和强大的光束。任何微小的不稳定都会影响最终的成像效果。
    2339
    2024/10/18
    光刻机 EUV光刻机
    为什么研发EUV光刻机那么难？
  • ASML业绩“暴雷”
    ASML营收额的增长势头可能将迎来急刹车。荷兰费尔德霍芬时间10月15日，ASML发布2024年第三季度财报，财报显示，2024年第三季度，ASML实现净销售额74.67亿欧元，环比增长19.6%；净利润达20.77亿欧元，环比增长31.6%，二者均创下自2021年第一季度以来的历史新高。然而，该季度新增订单金额仅为26.33亿欧元，环比减少52.7%，不及市场预期的54亿欧元的一半，接近2021年第一季度以来的历史低值（2023年第三季度新增订单金额26.02亿欧元）。
    607
    2024/10/17
    ASML EUV光刻机
    ASML业绩“暴雷”
  • ASML发布2024年第三季度财报 | 净销售额75亿欧元，净利润为21亿欧元
    阿斯麦（ASML）今日发布2024年第三季度财报。2024年第三季度，ASML实现净销售额75亿欧元，毛利率为50.8%，净利润达21亿欧元。今年第三季度的新增订单金额为26亿欧元²，其中14亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2024年第四季度的净销售额在88亿至92亿欧元之间，毛利率介于49%到50%，2024年全年的净销售额约为280亿欧元。ASML还预计，2025年的净销售额在300亿至
    706
    2024/10/16
    ASML EUV光刻机
    ASML发布2024年第三季度财报 | 净销售额75亿欧元，净利润为21亿欧元
  • 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本将大幅降低！
    8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。相比传统的至少需要六面反射镜的配置，新的光学投影系统仅使用了两面反射镜，在确保系统维持较高的光学性能的同时，能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆，相比传统系统中仅1%的功率来说，提了高到了原来的10倍，可说是一大突破。
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    2024/08/12
    EUV光刻机 EUV光刻
    日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本将大幅降低！

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