芯耀
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什么是辉光放电与弧光放电？
辉光放电 Glow Discharge
电流小（mA 级）
电压高（几百伏）
放电均匀、稳定、可控
等离子体温度较低（低温等离子体）
不会损坏器件
| 应用 | 说明 |
|---|---|
| RIE/ICP 刻蚀 | 气体电离，提供自由基和离子 |
| PECVD、HDPCVD | 薄膜沉积 |
| O₂ 去胶/灰化 | 光刻胶去除 |
| 表面活化 | 提高键合能力 |
| 溅射清洗 | 去除表面污染 |
弧光放电 Arc Discharge
电流非常大（A ~ 数百 A）
瞬时电压低
局部温度极高（可达几千至上万 °C）
能熔化、蒸发固体
不均匀、跳跃性强、破坏性强
| 应用 | 说明 |
|---|---|
| 电弧蒸发 | 用于 PVD 涂层，如 TiN、CrN、AlTiN |
| 离子源（真空电弧） | 产生高电荷态金属离子束 |
二者的核心区别概览？
| 特性 | 辉光放电 (Glow Discharge) | 弧光放电 (Arc Discharge) |
| 直观感觉 | 暗淡、弥散、冷（像霓虹灯） | 刺眼、细丝状、极热（像电焊） |
| 电子来源 | 二次电子发射（离子撞击阴极） | 热电子发射（阴极被烧热了） |
| 阴极温度 | 冷（< 100°C，甚至室温） | 极热（2000°C - 4000°C+） |
| 电流大小 | 小（毫安级 mA） | 极大（安培级 A 到 千安级 kA） |
| 电压大小 | 高（几百伏到几千伏） | 低（几十伏，甚至十几伏） |
在半导体工艺中，弧光放电是灾难，可导致：
金属溅射污染 wafer
打坏靶材
损伤陶瓷部件
RF 匹配异常
所以 在刻蚀/沉积设备里弧光放电必须极力避免！
如有需要1.2L全套微型电镀槽如下图，可联系Tom
目前我们有cmp，光刻，镀膜，键合，量检测的技术群，如需进群，请加Tom微，防失联：
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