工艺节点有猫腻，别被台积电、英特尔的数字游戏欺骗了

看起来台积电的 10nm 制程的最小特征尺寸为 20nm。

代工界存在着工艺节点和最小特征尺寸两个名词没什么新鲜的，但这两个参数的差异却逐渐成为百分之百的新行业标准。

业界经历的最后一个比较诚实的节点是三星的 90nm 工艺，版图上真实的栅极长度就是 90nm，这在过去才是行业惯例。

然后，到下一个节点 65nm 时，德州仪器发布了一种 65nm 工艺所采用的一个栅极长度却是 130nm。德州仪器显然领先于时代，台积电接下来的 5 个工艺节点都将沿用这种工艺节点和最小特征尺寸之间的差异。

到了英特尔称为 45nm 而台积电称为 40nm 的工艺节点，两家公司的制程中采用的栅极长度为 65nm。

台积电的 20nm 工艺被其称为 16nm，GlobalFoundries 的 20nm 工艺则称为 14nm，英特尔的 27nm 工艺则被称为 20nm。

到了 14nm，英特尔的制程中采用的一个栅极长度为 18nm。

到 10nm 更加奇妙了。我们已经看到台积电的 10nm 工艺制程实际上是一个 20nm 工艺而其之后的 7nm 制程最小特征尺寸为 14nm。

所以，从 90nm 的工艺节点和最小特征尺寸的奇偶校验，到 10nm 的我们要对工艺节点做加倍才能了解其最小特征尺寸，大家明白了这一规律倒也简单。

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事情就是这么简单。