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电镀

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电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。不少硬币的外层亦为电镀。

电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。不少硬币的外层亦为电镀。收起

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  • 芯片封装工艺中的除渣及电镀(Deflash and Plating)
    除渣及电镀是封装后期的重要工序,主要用于清除塑封残渣并给引线框架电镀保护层。除渣通过高压水注冲洗去除塑封残渣,确保电气连接区清洁。电镀则是在引线框架上沉积一层纯锡,提高抗腐蚀性和可焊性,并符合环保要求。电镀工艺的关键参数包括电镀厚度、电流密度、镀液温度和电镀时间,需严格控制以保证镀层质量和尺寸配合。此外,整个工艺还需满足RoHS和REACH等环保法规的要求,采用无铅纯锡电镀。为了确保产品质量,需要设立完整的制程监控点,并定期进行镀层和除渣的品质检验。
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    01/20 10:48
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  • PCB电镀铜工艺:实现电路板精细线路的关键步骤
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  • 晶圆级封装(WLP)中Bump凸点工艺:4大实现方式的技术细节与场景适配
    在晶圆级封装(WLP)中,Bump凸点是实现芯片与基板/ PCB互连的“桥梁”,其工艺直接决定封装密度、可靠性与成本。目前主流的Bump凸点工艺主要分为电镀法、焊料印刷法、蒸发/溅射法、球放置法四类,每类工艺因技术路径不同,在步骤、材料、设备及应用场景上差异显著。下面从实际生产视角,拆解各类工艺的核心细节与适配逻辑。 一、电镀法(Electroplating Bump):高密度封装的“主流选择”
  • 电镀工艺工程师常用核心专业术语
    对于电镀工艺工程师来说,尤其是在半导体后道工序(BEOL, Back End of Line)中负责铜互连(Copper Interconnect)的工程师,掌握一套精准的专业术语是高效沟通、解决问题和进行工艺开发的基础。小编为你梳理一套核心常用术语,并按照化学体系、工艺过程与硬件、质量与缺陷、以及工艺整合这四个类别进行解释。这套术语体系不仅是日常交流的语言,更代表了我们思考和分析电镀工艺的框架。
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    2025/08/26
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  • 晶圆电镀要知道的两个定律
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  • 析氢反应对晶圆电镀的危害?
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  • 电镀时晶圆表面有哪些副反应?
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  • ENNOVI连续五年荣获EcoVadis铂金评级
    作为互连解决方案合作伙伴,ENNOVI自豪地宣布,公司凭借卓越的可持续发展表现,再次获得全球最具声誉的企业可持续发展评级机构EcoVadis的认可。ENNOVI凭借对环境保护、道德规范和社会责任的坚定承诺,第五次荣获EcoVadis铂金奖章。此次成就使ENNOVI跻身全球逾13万家受评企业的前1%。 我们将EcoVadis的整体评分提升至85分,在劳工与人权、道德规范以及可持续采购等方面取得了显著
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    学员问:晶圆电镀的速率不能无限制地提高,为什么?半导体工艺普遍遵循“欲速则不达”的原则,要想做的好,需要慢下来。
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    学员问:为什么在电镀完铜后,要在铜上镀镍,之后在镍上镀金?一般的电镀顺序?电镀铜--》电镀镍--》电镀金--》电镀锡球四层金属结构的功能分工?
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    学员问:晶圆电镀前需要做什么处理吗?直接镀还是?晶圆电镀前处理的核心目标?1,去除杂质,去除有机物、氧化层、残胶等污染……
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  • 晶圆的电镀速率怎么算?
    学员问:麻烦讲讲电镀速率是怎么算的?一直稀里糊涂晶圆电镀的镀速经验值?2价金属,如铜金属,在1ASD,1min的条件下,生长0.2um
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