晶圆级封装

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  • 中国大陆凸块、晶圆级封装产线产品统计(2026版)
    半导体行业封装产能紧张,尤其是凸块和晶圆级封装领域。作者分享了最新的封装生产线统计数据,并提供了详细的产品分类信息,这些数据已上传至知识星球供会员下载。
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    长电科技在上海临港投资78亿元建设高端先进封测工厂,加速产能扩展以应对AI算力需求激增。该项目将重点聚焦2.5D/3D晶圆级封装及高密度异构集成,助力临港集成电路产业完善产业链闭环,并增强国内半导体供应链的安全性和自主性。
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    引言:在半导体产业链中,晶圆切割作为芯片制造后道封装的关键工序,其工艺质量直接决定了芯片的良率和可靠性。随着晶圆尺寸不断增大、厚度持续减薄以及新型材料(如碳化硅、氮化镓、Low-k介质层)的广泛应用,切割工艺面临着前所未有的挑战。切割过程中产生的摩擦热、硅粉残留、崩边以及电极短路等问题,成为困扰各大封测厂的技术痛点。 一、优质的晶圆切割液,正是解决这些痛点的关键。 产品核心优势:不止于润滑,更在于
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    在摩尔定律逐渐逼近物理极限的今天,半导体行业正通过“超越摩尔”(More than Moore)的路径寻求突破。晶圆级封装(WLP)作为此路径上的关键技术,正在重塑芯片的形态与未来。它将封装与测试的环节前置到晶圆切割之前,使得最终的封装体尺寸几乎与芯片裸片等同,从而在智能手机、可穿戴设备、高性能AI计算卡等对空间极度敏感的应用中,成为实现极致微型化与高功能密度的核心引擎。 然而,这场微型化革命并非
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    TCB机台上引入甲酸蒸汽是为了去除Sn焊料表面的SnO氧化层。甲酸蒸汽在100-150℃条件下与SnO反应生成Sn(COOH)₂,并在高温下进一步分解为Sn、CO₂和H₂,从而有效去除氧化层并保持焊点活性。这种方法相比传统助焊剂和氢气还原更为温和且易于操作,适用于Fluxless TCB工艺。