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武汉新芯:我也可以量产48层3D NAND

2016/05/10
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红色供应链来势汹汹,外界原本认为,陆厂要到四五年后才能在记忆体抢下一席之地,不过有分析师预测,陆厂研发脚步迅速,可能 2018 年就能量产 3D NAND。

美系外资晶片设备分析师 Atif Malik 称,中国透过 Rambus 和 Spansion 取得 DRAM 和 NAND 记忆体的技术授权。2 月份,Spansion 和武汉新芯(XMC)签订 3D NAND 研发和交叉授权协定。由武汉新芯出资、Spansion 提供电荷储存式(Charge trap)和浮闸(Floating Gate)的 NAND IP。Malik 表示,他们相信 2017 年底就能取得 48 层 3D NAND 的验证,2018 年进行量产。

目前只有三星有能力量产 48 层 3D NAND,另一记忆体大厂 SK 海力士预料要到今年下半才能生产。

与此同时,Malik 也指出,中国投入半导体市场,对设备商来说短多长空。中国砸钱大买设备建厂,应用材料(Applied Materials)、Lam Research 一开始有望受惠。但是长期而言,设备业者将流失非中国业者订单。这是“零和游戏”,中国订单大增,表示其他记忆体和晶圆代工大厂需要减少资本开支。(注:零和游戏 /zero sum game,一方获利意味另一方将蒙受损失、两者相加的总和永远为零)

他强调,中国加入不会扩大全球半导体设备支出,因为中国向半导体的三大资本开支大厂,采购大量晶片。这三大业者分别是台积电(2330)、英特尔、三星电子。中国计画 2020 年前,国内消费的 40%晶片改为自制。

4 月 12 日有报导,Bernstein 分析师 Mark Newman 表示,记忆体业者自相残杀,等到中国厂商进入市场,情况将急转直下。报告称,中国可能是足以颠覆市场的竞争者,他们财力雄厚,等到供给上线后,市况将惨不忍睹。武汉新芯(XMC)的 3D NAND 技术大约落后领先厂商 4~5 年,他们打算狂烧资本加紧追赶,等到量产之后,市场供给过剩将更加恶化。

目前只有三星有能力制造 3D NAND,其他业者要到今年下半才开始生产。3D NAND 采用较旧制程(35~50 奈米),业者能以较低成本、提高产能。英特尔主管 David Lundell 表示,预计大连厂会在今年底量产 3D NAND。

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