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光刻胶是一种高分子材料，广泛应用于半导体、电子、光学等领域。
1.光刻胶是什么材料
光刻胶是一种涂覆在芯片表面的光敏化合物，它可以通过紫外线曝光和化学蚀刻来形成微小的结构。光刻胶的选择取决于应用，常见的有正胶和负胶两种类型。
2.光刻胶成分
光刻胶的主要成分是高聚物，通常是聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或聚苯乙烯（PS）。为了实现不同的性能和应用，还会添加其他化合物如硅酮、碘银等。
3.光刻胶的用途
光刻胶在微电子制造中扮演着重要的角色，被广泛应用于芯片制造和MEMS（微机电系统）的制作。它也用于光学和光学纤维领域，如制造平面显示器、LED、柔性电子、光学透镜和光学波导等。
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