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    • 1.光刻技术原理
    • 2.光刻技术的特点
    • 3.光刻技术的应用
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光刻技术

2021/12/14
3019
阅读需 3 分钟
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光刻技术是一种重要的微电子制造工艺,利用光刻机将掩膜图案转移到光刻胶上,再通过后续的化学或物理方法去除某些区域的光刻胶,形成具有所需功能和形状的微米级或亚微米级结构。

1.光刻技术原理

光刻技术的基本原理是利用凸透镜将紫外线光汇聚于光刻胶表面,使光刻胶在被照射的区域发生化学反应或物理变化,然后通过显影、退火等工艺去除光刻胶的一部分,最终形成所需的图案。

2.光刻技术的特点

(1)分辨率高,能够制造纳米级及以下器件结构;
(2)适用于多种材料,可制备不同性质和形状的器件;
(3)批量生产能力强,可快速、准确地制造大量相同或相似的器件;
(4)制作流程复杂,环节多,成本高。

3.光刻技术的应用

光刻技术广泛应用于半导体、平板显示、微机电系统MEMS)、光学元件等领域,是制造集成电路和微纳制造的重要工艺之一。在集成电路制造中,光刻工艺通常被用于制作芯片上的电路图案和相互连接的线路;在MEMS制造中,光刻技术则可以用于制作微机械构件和传感器;在光学元件制造领域,光刻技术可用于制作透镜、棱镜等光学元件。

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