电子束曝光系统的分类

电子束曝光的基本概念？

电子束曝光是用聚焦的电子束在涂有电子束光刻胶的基板上直接"写"出图形，不需要掩模（或用于制作掩模）。它的分辨率极高（可达纳米级），但速度慢，主要用于掩模制作和高分辨率研究。

按用途分为两大类：制作掩模（Mask Making）和高分辨率图形化（High Resolution Patterning）。

电子束曝光系统的分类？

这类系统用来制造光刻用的掩模版（Mask/Reticle），追求大面积、高效率。

有两种光束方式：

特征	含义
Round spot beam（圆形束）	电子束截面是圆形光斑，像笔尖一样
Raster scan（光栅扫描）	电子束像电视机扫描一样，逐行扫过整个区域，不管有没有图形都扫
Continuous stage move（载物台连续移动）	工作台匀速连续移动，配合光束扫描

特点： 像打印机一样逐行扫描整个版面，扫描路径固定，适合大面积均匀写入。

特征	含义
Shaped beam（成形束）	电子束截面被整形成矩形或可变形状，一次曝光一个面块

特点： 不是用小圆点一点点画，而是用一个成形的"块"一次曝一片，效率比圆形束高得多。现代掩模制作主流用可变成形束（VSB，Variable Shaped Beam），一次打一个矩形，大幅提速。

这类系统用于直写高分辨率图形（如研究、小批量、原型器件），追求极致分辨率。

图中列出的特征：

同样用圆形光斑，但这里追求的是极小的束斑以获得最高分辨率。

矢量扫描像"点对点"直接跳到要曝光的位置，空白区不浪费时间，适合图形分散的高分辨率写入。