芯耀
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在半导体制造产业中，湿法设备起着至关重要的作用。以下是对一些主要企业的介绍：
国内企业
盛美上海：作为国产半导体湿法清洗设备的龙头，在单片式清洗设备领域竞争力强，其全球首创的 SAPS/TEBO 兆声波清洗技术，能有效解决传统清洗中的损伤问题，Tahoe 单片槽式组合设备适用于 45nm 以下制程，打破了国际垄断。
至纯科技：是国内集成电路领域高纯工艺系统的领导者和湿法设备的领先者，其湿法设备产品已成功开发四大平台，覆盖湿法几乎全部工艺，在 28nm 及以上主流集成电路制造企业的大宗气体供应方面表现突出，旗下至微科技是国内湿法设备主要供应商之一，能满足多个细分领域的需求。
北方华创：通过收购 Akrion 完善了产品线，可提供 65nm 至 28nm 工艺的单片及槽式清洗设备，在国内半导体设备市场具有较高的知名度和影响力，产品广泛应用于集成电路制造、先进封装等领域。
芯源微：主攻涂胶显影设备，其物理刷片清洗技术在湿法领域形成了差异化竞争，为半导体制造提供了独特的清洗解决方案，尤其在前道晶圆制造的后段工序中表现出色。
芯矽科技：成立于 2018 年的芯矽科技，凭借全场景产品矩阵、智能化与环保设计以及专利技术储备，成为国产替代的标杆企业，其 12 英寸全自动晶圆化学镀设备及石英清洗机市占率领先，定制化能力突出，服务于长江存储、中芯国际等主流 Fab 厂。
智程半导体：自 2009 年成立以来，专注于半导体湿法设备研发制造，是国家专精特新 “小巨人” 企业和江苏省高新技术企业，公司产品涵盖清洗、电镀、蚀刻等设备，覆盖集成电路前道制程、先进封装等领域，拥有多项核心技术和专利。
国外企业
迪恩士（SCREEN）：来自日本的迪恩士是全球半导体湿法清洗设备的领先企业之一，其在清洗技术研发和设备制造方面具有深厚的底蕴和丰富的经验，产品涵盖了多种类型的湿法清洗设备，如单片清洗设备、槽式清洗设备等，广泛应用于半导体制造的前道、中道和后道工序，为全球众多知名半导体企业提供了高质量的清洗解决方案。
东京电子（TEL）：东京电子是日本著名的半导体设备制造商，在半导体湿法清洗设备领域也占据重要地位，其设备以高精度、高效率和高可靠性著称，能够满足不同制程节点的清洗需求，特别是在先进制程的清洗技术上处于领先地位，与全球各大半导体厂商保持着紧密的合作关系。
泛林（LAM）：美国的泛林集团是全球知名的半导体设备供应商，其半导体湿法清洗设备在市场上具有很强的竞争力，公司拥有先进的清洗技术和创新的解决方案，能够针对各种复杂的半导体制造工艺提供有效的清洗手段，帮助客户提高生产效率和产品质量。
细美事（SEMES）：韩国的细美事也是半导体湿法清洗设备的重要制造商之一，其产品在韩国本土及全球市场都得到了广泛应用，公司在清洗设备的研发和生产上不断投入，推出了一系列高性能的湿法清洗设备，满足了不同客户对于清洗工艺的要求。
总之，这些企业在技术创新、市场份额等方面各有优势。它们共同推动了半导体湿法设备行业的发展，为全球半导体制造提供了强有力的支持。
