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AI数据中心为何转向800V HVDC?解析数据中心电源架构与SiC/GaN技术趋势

6小时前
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随着数据中心AI负载所需功率的快速增加,服务器的供电架构也随之发展。当前每个机架包含供电单元PSU、备用电源BBU及AI负载等,单相PSU的功率也逐步从3.3kW提升至12kW。然而当机架功率水平超过250kW时,供电电源正转向采用专用机架(即sidecar)进行供电和备电配置,并逐步过渡到三相交流供电模式。最后,随着机架功率水平的持续提升,数据中心预将采用基于固态变压器(SST)的完全集中式高压直流配电架构,从而实现整个设施的高效电力分配。

01、AI服务器架构趋势和PSU功率演变

上图展示了服务器机架架构在第一代和第二代中的演进历程。第一代架构采用开放计算项目(OCP)开放机架供电架构,该架构已在超大规模数据中心部署。每个供电机架通过三相输入供电,并容纳多个电源单元(PSU),每个电源单元则由单相输入供电。机架向母线输出直流电压(例如50V),该母线同时连接IT设备单元和电池单元。当前采用5.5kW ORv3-HPR电源单元的架构,也可升级至12kW电源单元以提供更高功率。例如,配备12kW电源模块的4个电源架可提供总计288kW的机架供电能力。

AI芯片的发展趋势要求PSU和机架电源进行升级。当机架电源功率超过250kW时,空间就成为了限制因素,同一机架内难以容纳所有电源和计算组件,因此将供电组件与计算机架分离成为必然选择。第二代的HVDC Sidecar,内置电源单元(PSU)、电池备份单元(BBU)及电容器组单元(CBU)。其中PSU功率可达30kW,采用三相交流输入与HVDC输出。Sidecar提供了更多的空间,可将功率扩展至1MW,同时为计算机架腾出更多空间以容纳更强大的计算能力。

50V架构的限制:

电流过大

铜排成本高

损耗增加

HVDC的优势:

降低母线电流减少铜排成本

提高效率

提升功率扩展能力

Sidecar的HVDC输出通过busbar连接至计算机架,这意味着需要额外的转换阶段将HVDC降压至50V,图中所示的Generation 2a和Generation 2b,分别代表HVDC至50V转换的不同实现方案。G2a型基于当前的50V服务器连接,HVDC至50V的转换通过安装在计算机机架侧面侧的DC/DC转换架完成。该方案利用现有50V服务器基础同时,加速并简化HVDC Sidecar架构的应用。随后,G2b方案接续实施,将HVDC至50V的转换功能以中间母线转换(IBC)的形式集成于服务器内,可采用模块化设计降压转换器解决方案。

Sidecar的优势:

提升空间利用率

支持MW级扩展

适配HVDC

以下通过具体实例,列举每一代PSU和机架的实施拓扑结构及器件选择推荐。

1.1 第一代AI PSUs: 架构不变,功率迭代;

5.5~12kW,50V输出,单相230-277 Vac输入

当前一代服务器的PSU大多遵循ORv3-HPR标准。该标准中,多数规格(包括输入输出电压及效率指标)与前代ORv3 3kW的规范保持一致。但针对AI服务器需求进行了更新,例如更高功率与峰值功率要求(后文描述),同时因与BBU机架通信方式的调整,输出电压调节范围也相应缩窄。

G1架构的PSU由三相输入(400-480 Vac L-L)供电,但每个电源单元的输入仍为单相(230-277 Vac)。第一代PSU中,PFC阶段通常采用交错图腾柱结构,高频桥臂选用650V CoolSiCMOSFET,工频桥臂则采用600V CoolMOS™ MOSFET。另一种方案是采用400V CoolSiC™ MOSFET的三电平飞跨电容图腾柱(3-L FCTP)PFC,多电平变换器允许使用更低耐压的开关器件,3-L FCTP PFC因多电平拓扑的频率倍增,可提供更高效率与功率密度优势。

针对400V优化的CoolSiC™技术,相较于CoolSiC™ 650V和750V器件,实现了更优的性能指标(FoM),如下图左所示。此外,下图右展示了器件在不同温度下的导通电阻曲线,表明CoolSiC™ 400V MOSFET的100°C导通电阻仅比25°C导通电阻高出11%。这种平坦的RDS(on)与Tj特性曲线带来的优势在于:它使CoolSiC™ MOSFET能够采用更高的典型导通电阻RDS(on)器件,从而实现更优的成本效益和开关性能。

DC-DC级可采用基于CoolSiC™或CoolGaN™器件的LLC拓扑(如半桥、全桥或三相LLC),其工作电压为650V;而次级全桥整流及或Oring则采用80V OptiMOS™或CoolGaN™器件。三相LLC拓扑结构凭借第三个半桥开关支路可实现更高功率输出,其三大优势在于:输出电流纹波抵消能力,以及基于半桥间耦合效应实现电流均衡。

1.2 第二代AI PSUs: 三相 HVDC 结构,

18~30kW, ±400/800V 输出,

三相 400~480 Vac输入

为进一步提升机架供电能力,第二代服务器电源将采用全新的机架架构,1)电源输入由单相改为三相,以提升密度并降低成本。2)电源机架输出电压从50V提升至±400/800V,从而降低母线电流、损耗及成本。

上图展示了适用于三相输入与HVDC输出的第二代PSU拓扑示例。PFC级常采用维也纳变换器拓扑,其优势在于横管可承受半母线电压,可采用650V背靠背CoolSiC™ MOS;输入二极管选用1200V CoolSiC™二极管,兼具结构简洁与成本优势。另外还可以将输入侧二极管替换为1200V CoolSiC™ MOS,可显著降低导通损耗从而提升效率。

LLC级可配置为两个交错(并联)或两个级联(串联)的形式。在交错并联中,每个LLC跨接于全母线电压约860V,原边采用1200V CoolSiC™ MOS。在串联中PFC输出采用分裂电容,将两个LLC级串联连接,原边使用650V CoolGaN™器件或CoolSiC™ MOS。原边无论采用串联或并联LLC方案,两个LLC副边均可并联连接:

■ 400V输出时:同步整流采用650V CoolSiC™或CoolGaN™器件,Oring采用同规格器件。

■ 800V输出时:采用1200V CoolSiC™ MOSFET

在维也纳型和T型PFC中,两个背靠背的650 V CoolSiC™ MOS可被650V CoolGaN™双向开关(BDS)替代,该器件是常闭式单芯片双向开关,将两个芯片的Drain级进行内部集成。这意味着单颗CoolGaN™ BDS可替代四颗分立功率开关实现同等导通电阻RDS(on),其优势在于以RDS(on)/mm²为衡量标准时具备极高效的芯片面积利用率。

02、使用SiC/GaN器件大幅提升AI PSU的性能

2.1 为什么CoolGaN™更适合应对GPU瞬态负载?

CoolGaN™已经成为PSU的最佳选择,GAN器件在更高开关频率下能实现最高效率,从而支持更高功率密度的转换器设计,且不会降低转换效率。

除了AI电源的额定功率显著提升外,GPU还会产生更高的峰值功率并引发高瞬态负载功率阶跃。因此,DC-DC级输出必须具备足够的动态响应能力,同时电压过冲与欠冲必须保持在规定限值内。通过使用CoolGaN™器件提升开关频率可增强DC-DC级输出动态响应,从而扩大控制环路带宽英飞凌8kW PSU参考设计采用CoolGaN™实现高频LLC方案,即为该原理的实证。

CoolGaN™器件凭借其卓越的性能指标(FoM)以及在硅、碳化硅氮化镓器件中最低的开关损耗,轻松满足更高开关频率的要求。尤其在软开关LLC中,CoolGaN™具有最低的输出电容电荷(Qoss),这对更轻松实现零电压开关(ZVS)至关重要。由此可实现更精确的死区时间设定,从而消除不必要死区时间的导通损耗。

2.2 CoolSiC™ MOS 400V使能更高效的三电平飞跨图腾柱 PFC

采用400V CoolSiC™ MOS的三电平飞跨图腾柱PFC(3-L FCTP PFC)相较于650V和750V CoolSiC™的器件,可实现更高密度与效率优势。通过优化电感器设计(尺寸、材料和绕组)并在三电平拓扑中选择具有较低开关损耗的400V SiCMOS器件,实现了平坦的效率曲线,峰值效率>99.3%,满载效率>99.15%。

2.3 CoolSiC™ MOSFETs 650V和1200V使能更高效的三相HVDC PSUs

650 V SiC MOS在PFC阶段的背靠背开关发挥关键作用,1200 V CoolSiC™ MOS和二极管则用于维也纳/T型PFC的竖管。DC-DC级同样需要650V或1200V SiC MOS作为初级侧开关及次级侧同步整流器,具体取决于LLC配置和输出电压。下图展示了CoolSiC™ MOS在室温与高温环境下同步整流工作模式中,相较竞品的开关损耗对比测试。英飞凌的SiC MOS呈现开关损耗的明显降低,有效降低三相高压系统中PFC与LLC的损耗。

目前英飞凌第二代1200V SiC MOSFET包含五个封装,有传统的TO263和TO247封装可选,也有创新的顶部散热封装(单开关和半桥拓扑)可供选择,RDS(on)范围从4mΩ至234mΩ,适合在高功率密度内实现低损耗和高效率。

 结论 

AI服务器正在推动数据中心供电架构经历过去20年最大的变革。从5.5kW PSU到30kW PSU,从50V母线到±400V/800V HVDC,从传统机架到Power Sidecar,再到未来基于固态变压器(SST)的直流微网架构,高效率、高功率密度和高可靠性正成为核心目标。在这一过程中,基于CoolSiC™和CoolGaN™的宽禁带技术以及优化的栅极驱动器IC,将成为下一代AI数据中心电源架构设计的重要基础。

英飞凌

英飞凌

英飞凌科技公司于1999年4月1日在德国慕尼黑正式成立,是全球领先的半导体公司之一。其前身是西门子集团的半导体部门,于1999年独立,2000年上市。其中文名称为亿恒科技,2002年后更名为英飞凌科技。总部位于德国Neubiberg的英飞凌科技股份公司,为现代社会的三大科技挑战领域--高能效、移动性和安全性提供半导体和系统解决方案。 英飞凌专注于迎接现代社会的三大科技挑战: 高能效、 移动性和 安全性,为汽车和工业功率器件、芯片卡和安全应用提供半导体和系统解决方案。英飞凌的产品素以高可靠性、卓越质量和创新性著称,并在模拟和混合信号、射频、功率以及嵌入式控制装置领域掌握尖端技术。英飞凌的业务遍及全球,在美国加州苗必达、亚太地区的新加坡和日本东京等地拥有分支机构。

英飞凌科技公司于1999年4月1日在德国慕尼黑正式成立,是全球领先的半导体公司之一。其前身是西门子集团的半导体部门,于1999年独立,2000年上市。其中文名称为亿恒科技,2002年后更名为英飞凌科技。总部位于德国Neubiberg的英飞凌科技股份公司,为现代社会的三大科技挑战领域--高能效、移动性和安全性提供半导体和系统解决方案。 英飞凌专注于迎接现代社会的三大科技挑战: 高能效、 移动性和 安全性,为汽车和工业功率器件、芯片卡和安全应用提供半导体和系统解决方案。英飞凌的产品素以高可靠性、卓越质量和创新性著称,并在模拟和混合信号、射频、功率以及嵌入式控制装置领域掌握尖端技术。英飞凌的业务遍及全球,在美国加州苗必达、亚太地区的新加坡和日本东京等地拥有分支机构。收起

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英飞凌科技股份公司是全球功率系统和物联网领域的半导体领导者。英飞凌以其产品和解决方案推动低碳化和数字化进程。该公司在全球拥有约58,600名员工,在2023财年(截至9月30日)的营收约为163亿欧元。英飞凌在法兰克福证券交易所上市(股票代码:IFX),在美国的OTCQX国际场外交易市场上市(股票代码:IFNNY)。 更多信息,请访问www.infineon.com