光刻胶

• 光刻胶的台阶高度测量-3D白光干涉仪

  1 、引言 PLC（平面光波导）作为集成光学领域的核心器件，其内部图形凹槽的深度是决定光传输路径、模式耦合效率及信号传输损耗的关键参数。在PLC制备过程中，光刻、蚀刻等工艺易导致凹槽深度出现偏差，过深会破坏波导芯层完整性，过浅则无法实现光信号的有效约束与隔离，直接影响器件性能。传统凹槽深度测量方法存在测量范围有限、易损伤器件表面等缺陷，难以满足PLC高精度检测需求。3D白光干涉仪凭借非接触测量特性

  eefocus_4137064

  492

  02/04 14:35

  半导体 光刻胶
• PR光刻胶的台阶高度测量-3D白光干涉仪

  1 、引言 PLC（平面光波导）作为集成光学领域的核心器件，其内部图形凹槽的深度是决定光传输路径、模式耦合效率及信号传输损耗的关键参数。在PLC制备过程中，光刻、蚀刻等工艺易导致凹槽深度出现偏差，过深会破坏波导芯层完整性，过浅则无法实现光信号的有效约束与隔离，直接影响器件性能。传统凹槽深度测量方法存在测量范围有限、易损伤器件表面等缺陷，难以满足PLC高精度检测需求。3D白光干涉仪凭借非接触测量特性

  eefocus_4137064

  459

  02/03 16:08

  半导体 光刻胶
• 豪掷 20 亿！押注南通，猛攻光刻胶！

  艾森股份宣布在南通市经济技术开发区设立全资子公司，投资建设集成电路材料华东制造基地项目，总投资预计达20亿元，规划用地约159亩，计划于2035年达产。项目一期预计2028年投产，二期2030年投产，主要产品涵盖半导体用光刻胶及配套树脂、电镀液、高纯试剂等关键材料，旨在全面提升公司产能，抢占市场先机，并通过多元化产品矩阵完善业务布局，增强客户粘性。

  是说芯语

  3239

  01/29 15:22

  光刻胶
• 2025年光刻胶产业链研究报告

  光刻胶在中国半导体产业中占据核心地位，但大部分高端市场份额被日本企业掌握。中国光刻胶市场存在结构性短板，尤其在半导体光刻胶领域，国产化率极低。尽管国内企业在PCB和显示光刻胶领域取得突破，但仍面临上游原材料和技术壁垒。中国政府出台多项政策支持光刻胶国产化进程，并鼓励产业链协同创新。未来，随着产能建设和技术创新，中国有望打破光刻胶依赖进口的局面。

  制造前沿

  3351

  01/21 10:23

  光刻胶

  
• EUV光刻，卡在了光刻胶上

  EUV光刻胶的大批量生产尚未完成，现有光刻胶薄膜难以满足尖端半导体制造商的标准。三井化学研发的碳纳米管薄膜虽有潜力，但在耐用性和透光率之间存在权衡。尽管多家公司在竞争下一代光刻胶，但具体谁能成功仍有不确定性。随着EUV光刻需求的增长，谁能在这一领域取得突破将影响深远。

  半导体产业纵横

  1375

  2025/12/18

  光刻胶 EUV光刻

  
• 日本供应占90%，国产率不足5%：中国光刻胶谁在破局？

  中国光刻胶市场规模达128亿元，国产化率不足5%，日本垄断高端市场。面对日本出口管制政策的压力，国产光刻胶企业纷纷崛起，南大光电、彤程新材、晶瑞电材、上海新阳、鼎龙股份等多家企业在ArF、KrF光刻胶方面取得突破。此外，徐州博康、容大感光、恒坤新材、山东同益、星泰克、华睿芯材等企业也在积极研发和生产各类光刻胶产品，推动中国半导体产业链的发展。

  芯师爷

  1.4万

  2025/11/27

  光刻胶

  
• 国产光刻胶走到哪了？

  近日，日本首相高市早苗发表涉台错误言论，引发中日新一轮外交风波，这一事件将高度依赖日本供应链的“光刻胶”推向了风口浪尖。日本企业长期垄断着全球光刻胶市场，尤其在高端领域占据90%以上市场份额。光刻胶，这种对光敏感的混合液体，已成为中日科技博弈中最敏感的神经末梢，也是中国半导体产业链必须攻克的“皇冠明珠”。 在此背景下，本文系统梳理下半导体光刻胶产业的产业格局、技术壁垒与国产替代进展，希望给行业相关

  史德志

  1万

  2025/11/27

  光刻胶

  
• 光刻胶参数对工艺的影响

  光刻胶参数调节涉及匀胶、前烘、曝光、显影和后烘五个环节。匀胶时，转速和环境温湿度影响膜厚均匀性；前烘温度和时间影响显影对比度和附着力；曝光能量和光强均匀性决定分辨率；显影液浓度、时间和温度影响显影效果；后烘温度影响图形保真性和抗蚀能力。

  TOM聊芯片智造

  2071

  2025/11/20

  光刻胶
• 福建诞生243亿光刻胶IPO！股价大涨260%

  恒坤新材成功登陆科创板，成为国内12英寸晶圆制造先进制程上出货量最大的光刻胶企业。公司自产光刻材料销售规模累计超过55000加仑，自产产品收入占比超过86%，实现了境内外部产品的替代。公司自产光刻材料包括SOC、BARC、KrF光刻胶、i-Line光刻胶等，已通过验证并小规模销售。未来，公司将继续推动集成电路关键材料的国产化进程。

  芯东西

  1196

  2025/11/19

  IPO 光刻胶

  
• 重大突破！我国光刻领域迎来新进展

  北京大学彭海琳教授团队利用冷冻电子断层扫描技术首次揭示了光刻胶显影过程中的微观机制，解决了长期以来困扰芯片制造领域的“黑箱”问题。团队发现光刻胶并非简单溶解，而是主要吸附在气液界面上，并形成约30纳米的团聚颗粒，导致线路质量问题。通过提高曝光后烘烤温度和优化显影液流动性，成功降低了光刻胶残留缺陷，实现了从“蒙着眼试”到“看着显微镜修”的转变。这一突破不仅提升了芯片良率，还开启了半导体制造更多“黑箱”的可视化时代，标志着中国科研团队在先进制程领域取得重大进展。

  芯火相承

  1369

  2025/10/30

  芯片制造 光刻胶

  
• 首次！我国芯片领域取得重大突破

  中国科学家利用冷冻电子断层扫描技术首次解析出光刻胶分子在显影液中的三维结构，攻克芯片制造的“黑匣子”。此突破不仅有助于提高芯片良率，还将推动国产光刻胶的发展，为中国芯片制造业带来重大变革。

  芯火相承

  770

  2025/10/28

  芯片制造 光刻胶
• 半导体，国产替代核心材料全面突围！

  半导体产业的卡脖子问题，说到底，绕不开一个字：材。硅片、光掩膜版、光刻胶、CMP抛光材料——这四大核心材料，就像造房子的水泥、钢筋、玻璃和地基，缺一不可。没有它们，再先进的设计图纸也只能是空中楼阁。 过去很长一段时间，全球半导体材料市场几乎被日本、美国、欧洲巨头牢牢掌控，而中国只能大量依赖进口。近年来，随着中美科技博弈加剧，半导体国产替代按下加速键，这四大材料的突破，正在成为产业链自主化的关键一环

  芯火相承

  1.1万

  2025/09/29

  国产替代 半导体材料
• 光刻胶国产替代，最有潜力的几家企业

  半导体光刻胶国产化迫在眉睫，国内多家企业正积极追赶。其中，彤程新材、南大光电、鼎龙股份、晶瑞电材、上海新阳和容大感光表现突出。它们不仅在KrF和ArF光刻胶方面取得进展，还在关键原材料自给率和产能规划上表现出色。随着客户验证的突破和自主可控性的增强，国产光刻胶有望在未来几年内显著提升市场份额，打破国外垄断。

  芯火相承

  8724

  2025/09/05

  国产替代 光刻胶

  
• 光刻胶相关常见术语

  光刻胶基础属性术语：PR（光刻胶）、灵敏度、对比度、分辨率；工艺相关术语：软烘、后烘、显影液、溶解速率；关键成膜与性能指标：膜厚、景深、抗刻蚀性；缺陷与可靠性术语：脚部现象、残胶、驻波效应、线边粗糙度；先进工艺术语：化学放大光刻胶、EUV光刻胶、析气、随机效应。建议工程师重点掌握基础属性、工艺步骤术语和常见缺陷，并逐步熟悉EUV光刻胶术语。

  老虎说芯

  2197

  2025/09/04

  光刻胶

  
• 为什么光刻胶（PR）的研发比想象中要难得多？

  1. 材料层面的挑战 光刻胶并不是单一化合物，而是一个复杂的多组分体系，包括： 树脂（Polymer）：决定成膜性、分辨率、刻蚀抗性； 光敏剂（Photoacid Generator, PAG）：吸收光能并生成酸，启动化学反应； 抑制剂/碱（Quencher/Base）：控制酸扩散和反应速率，保证对比度； 溶剂/添加剂：影响旋涂均匀性、膜厚和表面性质。 难点在于： 各组分必须同时满足分辨率、灵敏度

  老虎说芯

  2079

  2025/09/03

  光刻胶
• 科创板即将迎来“光刻胶第一股”！

  8月29日，上海证券交易所上市审核委员会2025年第32次审议会议正式收官，厦门恒坤新材料科技股份有限公司（下称“恒坤新材”）成功通过上市委审核，距离登陆科创板仅差临门一脚。 恒坤新材的科创板冲刺并非坦途。作为2025年首家亮相IPO审核现场的企业，公司曾在7月25日的上交所上市委2025年第26次审议会议中遭遇“暂缓审议”，成为年内首个获此结果的IPO企业，核心争议集中在两大关键问题——技术知识

  是说芯语

  1251

  2025/09/01

  光刻胶

  
• 光刻胶：中国三剑客杀出重围

  如果说光刻机是芯片工厂的雕刻刀，那光刻胶就是那层决定能雕多细的神奇油墨。没有它，芯片就是画饼——想得再美也做不出来。

  芯火相承

  1997

  2025/08/11

  光刻胶

  
• 全球半导体光刻胶配套材料、试剂供应商统计（详细分类版）

  半导体制造用的耗材里技术门槛最高的光刻胶了，所以讨论的人特别多。但是晶圆制造中和光刻胶配套使用的还有大量化学品耗材，这块关注的人却是不多4月份的时候，我发布过一版光刻胶相关产品供应商数据，但里面配套材料的分类是比较粗略的正好我最近根据一些行业资料又更新了一些信息，所以干脆再发布一版，细化了产品分类，供大家参考涂层材料主要是保护光刻胶以及抗反射材料等（也是需要单独涂敷的）；配套试剂主要是显影、去胶时使用的各种化学药剂...

  半导体综研

  1070

  2025/07/15

  半导体 光刻胶

  
• 为什么光刻区又叫黄光区？有什么含义？

  走进半导体工厂的无尘间光刻区，泛黄的灯光总会给人留下深刻印象。这抹看似普通的黄色光芒，实则是半导体制造中集光化学原理、材料特性与人体工程学于一体的精密设计。那些在新建实验室中为节省成本而随意安装黄灯管的做法，恰恰忽视了这一照明选择背后的多重技术约束。

  国芯制造

  6519

  2025/05/23

  半导体制造 光刻胶

  
• 全球半导体光刻胶及配套试剂供应商整理（104家）

  因为各种原因，我一直没有能完整发布光刻胶及其配套试剂和原材料的供应商数据其实，在半导体制造中，光刻胶以及配套试剂的市场规模仅次于硅片，而且高端光刻胶（EUV、DUV）的难度也基本上是最高的。

  半导体综研

  1810

  2025/04/27

  光刻胶

  

正在努力加载...