碳化硅MOSFET

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在SiC MOSFET的开发与应用方面,与相同功率等级的Si MOSFET相比,SiC MOSFET导通电阻、开关损耗大幅降低,适用于更高的工作频率,另由于其高温工作特性,大大提高了高温稳定性。

在SiC MOSFET的开发与应用方面,与相同功率等级的Si MOSFET相比,SiC MOSFET导通电阻、开关损耗大幅降低,适用于更高的工作频率,另由于其高温工作特性,大大提高了高温稳定性。收起

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  • 分立器件并联的高功率密度碳化硅电机控制器设计
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  • 2个晶圆厂新进度:正式投片;车规SiC MOS亮相
    近日,国内2家碳化硅IDM厂商实现了晶圆厂和车规级SiC MOS产品方面的突破:9月20日,昕感科技官微宣布,他们于当日顺利完成晶圆厂首批投片,标志着昕感晶圆厂正式进入全面营运阶段。
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  • 58.97亿元!芯联集成并购碳化硅相关业务子公司
    今年6月20日晚间,芯联集成曾发布公告称,其拟收购控股子公司芯联越州集成电路制造(绍兴)有限公司(以下简称:芯联越州)剩余72.33%股权。历时2个多月后,芯联集成收购芯联越州剩余72.33%股权的并购案迎来了最新进展。9月4日晚间,芯联集成发布公告称,其收购芯联越州剩余72.33%股权的重组草案通过了董事会决议。
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  • 国家队加持,芯片制造关键技术首次突破
    据南京发布近日消息,国家第三代半导体技术创新中心(南京)历时4年自主研发,成功攻关沟槽型碳化硅MOSFET芯片制造关键技术,打破平面型碳化硅MOSFET芯片性能“天花板”。据悉这是我国在这一领域的首次突破。
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  • 国产SiC实现3大技术突破:沟槽MOS/8英寸/SiCOI量产
    近期国内多家SiC企业均获得了最新技术突破,涉及沟槽技术、大尺寸制备等:● 青禾晶元:实现了高质量晶圆级SiCOI(6寸,SiC膜厚1μm±100nm)的规模化生产。● 国家第三代半导体技术创新中心(南京):成功攻关沟槽型碳化硅MOSFET芯片制造关键技术● 上海汉虹:使用自行研发制造的碳化硅长晶炉成功拉制出高品质8英寸碳化硅晶体。
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  • 4家SiC相关企业获融资
    近日,“行家说三代半”发现,国内又有4家SiC相关企业获得融资:新沥半导体:完成A轮融资,已量产1200V 80毫欧碳化硅MOS;矽迪半导体:完成数千万天使轮融资,将新建试产线工厂;盈鑫半导体:完成天使轮投资,加速CMP进口替代;盖泽科技:完成数千万融资,SiC设备已量产交付。
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