芯耀
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近日获悉，青岛思锐智能科技股份有限公司（下称“思锐智能”）完成数亿元C轮融资。本轮融资由国开制造业转型升级基金、中国国有企业结构调整基金联合领投，招银国际、中银资产、光谷金控等多家具有深厚产业背景的知名投资机构共同参与。
从早期的“中车系”资本加持到如今“国家队”基金领衔入局，思锐智能的融资历程勾勒出企业深耕半导体核心设备领域的成长轨迹，其精准的产品定位则在破解“卡脖子”难题的产业浪潮中占据了关键赛道。
从产业赋能到资本聚焦，七年六轮融资构建坚实后盾
自2018年成立以来，思锐智能的融资进程与企业发展战略深度绑定，形成产业资本引路、多元资本跟进、国家级资本压轴的鲜明特征。
我们梳理一下其融资脉络：
2019年，成立仅一年的思锐智能完成天使轮融资，投资方锁定中车资本与中国中车，凭借“中车系”背景的产业资源加持，为企业初期的技术布局奠定基础。2022年，企业完成A轮融资，吸引了中车资本等12家企业参与，资金助力下，思锐智能加速了ALD技术的国产化落地进程。2023年A+轮融资的完成，进一步夯实了企业的研发实力，为后续离子注入机的研发攻坚提供了支撑。
2024年成为思锐智能的融资密集期，先后完成B轮与B+轮融资：2月的B轮融资由上汽集团战略直投、尚颀资本和鼎晖投资联合领投，22家企业跟投；5月的B+轮融资则吸引了中车资本、山东国惠等9家机构参与，两轮融资后企业估值攀升至41亿元。值得注意的是，这一阶段的投资方已从早期的“中车系”产业资本扩展至上汽集团、鼎晖投资、招商局创投等多元化知名机构，反映出市场对其技术商业化前景的认可不断提升。
2025年11月完成的C轮融资，标志着思锐智能获得国家级资本的重磅背书。领投方中国国有企业结构调整基金（国调基金）是贯彻落实国资国企改革、布局战略性新兴产业的国家级基金，总规模达3500亿元；联合领投的国开制造业转型升级基金则聚焦制造业高质量发展，两者的入局不仅带来数亿元资金，更将为企业链接产业链上下游核心资源，助力其在半导体核心设备领域的纵深拓展。截至目前，思锐智能已汇聚50位股东，其中“中车系”资本合计持股约52.54%，形成了以产业资本为根基、国家级基金为引领、市场化机构为补充的多元股东结构，为企业冲刺IPO构建了坚实的资本后盾。
聚焦“卡脖子”领域，构建ALD+IMP双轨核心竞争力
思锐智能自成立之初便锚定半导体前道工艺核心设备这一高价值赛道，精准定位为“关键半导体前道工艺设备研发、生产和销售商”，聚焦原子层沉积（ALD）设备与离子注入（IMP）设备两大核心产品，成为国内唯一能同时突破这两项关键技术并实现量产的半导体设备企业。这一产品定位既契合国家集成电路产业发展战略，又精准切入了国产化率极低的高壁垒领域。
在ALD设备领域，思锐智能通过2018年全资收购芬兰倍耐克公司（Beneq Oy），快速获取了近40年的成熟ALD技术积累，实现了从科研型设备向工业型设备、从非半导体设备向半导体设备的“双转型”。ALD技术作为集成电路先进制程晶圆制造的关键环节，能够在复杂纳米结构上沉积高度均匀、纯净且厚度精确控制的薄膜，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源等领域。目前，思锐智能已构建完整的ALD产品线，拥有300余项相关专利，2024年ALD设备订单同比增长40%，其中P800型号设备成功交付半导体制造头部客户，标志着其在ALD技术产业化应用上实现重大突破。在GaN、Micro-LED、SiC等前沿领域，思锐智能的ALD设备已通过全球头部客户端验证，可有效提升器件性能，为国内企业提供高性价比解决方案，设备采购成本较国际同类产品降低20%-30%。
在离子注入机（IMP）领域，思锐智能同样实现了重大突破。作为芯片制造中实现精确掺杂的核心设备，离子注入机技术精度直接决定芯片性能，其难度仅次于光刻机，是《国家集成电路产业发展推进纲要》重点发展的设备之一。2023年，思锐智能成功研发并交付国内首台能量达到8MeV的高能离子注入机，填补了国内空白；2024年，该设备进入客户验证阶段，已应用于部分客户的逻辑、存储和功率器件测试，并逐步推进量产验证。其研发的SRII-4.5M和SRII-8M等型号高能离子注入机，采用先进的射频加速技术，能量分辨率高达±1%，能够满足从28nm到更先进制程的工艺需求，针对碳化硅（SiC）的特殊需求设计的Al离子源，寿命可达300小时，有效解决了SiC退火激活的行业难题。
凭借ALD与IMP双轨并行的产品布局，思锐智能的业务范围已覆盖全球40个国家及地区，服务超过500家半导体制造企业和科研机构，形成了“技术—制造—生态”的完整闭环。2025年6月，其投资超12亿元建设的半导体先进装备研发制造中心落成投产，成为年产上百台核心设备的研发生产基地，进一步强化了企业的规模化量产能力。
国产替代浪潮下的技术价值与成长潜力
当前，全球半导体设备市场规模已达700亿美元，预计未来5年将以10%的年复合增长率持续增长，而ALD设备作为薄膜沉积的核心设备，占据约30%的市场份额，国内市场需求增速高达20%。但在关键设备领域，国际巨头长期垄断，ALD与离子注入机的国产化率均处于较低水平，存在巨大的国产替代空间。
思锐智能的技术突破精准破解了这一“卡脖子”难题：其ALD设备实现了从技术引进到国产化创新的跨越，离子注入机则打破了欧美企业的长期垄断，两类产品均对标国际先进水平，为国内半导体产业链安全提供了关键支撑。诚通基金在参与C轮融资时明确表示，此次投资是国调基金贯彻国家集成电路产业发展战略，加快破解半导体核心设备“卡脖子”难题的重要举措，将助力推动半导体设备国产化进程、强化产业链和供应链安全。
尽管目前思锐智能尚未实现盈利（2023年营收4.68亿元，营业利润-2.39亿元；2024年前7个月营收2.15亿元，利润总额-1.42亿元），但这符合半导体核心设备企业前期高研发投入、长周期验证的行业特性。
值得关注的是，在完成C轮融资的同时，思锐智能的IPO进程也在稳步推进。2025年2月，企业已在青岛证监局完成首次公开发行股票并上市辅导备案，计划于2026年一季度至二季度向科创板提交申报文件。此次C轮融资的落地，将为其冲刺IPO进一步优化资本结构、补充运营资金。若上市成功，思锐智能将成为青岛资本市场的又一半导体领域标杆企业，为国内半导体核心设备产业的发展注入新活力。
此次数亿元C轮融资的完成，不仅是企业发展的新起点，更彰显了国产半导体设备领域的投资价值与产业潜力，未来随着技术迭代与量产落地，思锐智能有望在全球半导体设备市场占据更重要的地位。
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