半导体与电子制造软硬件领军企业ASMPT与其子品牌奥芯明于2026年中国半导体展会(SEMICON China 2026)N4451展位,推出全新裸晶圆处理系统ALSI LASER1206。本次展会主题为“智创‘芯’纪元”,ALSI LASER1206精准响应专注于先进封装的半导体企业日益增长的需求,为人工智能、智能出行等高增长市场提供解决方案。该全新系统搭载专利多光束激光加工技术,可实现膜框与裸晶圆全自动化处理,进一步丰富公司产品线,并重点聚焦前道工艺领域。
该新一代激光平台专为满足集成器件制造(IDM)厂商与晶圆代工厂对晶圆激光切割及开槽日益复杂的要求而设计。这款创新设备具备行业内无可比拟的精度与性能,可处理先进存储、逻辑芯片、人工智能及功率器件等领域的各类半导体材料。其专利紫外激光技术可在实现最高精度的同时将热影响降至最低,有效减少毛刺形成与芯片强度下降。该设备集成晶圆涂覆与清洗工位,并提供多种膜框及裸晶圆全自动化处理选配方案。平面运动系统的定位精度<1.5微米。开槽工艺可处理厚度60至800微米的晶圆,切割工艺可处理厚度20至200微米的晶圆。
ASMPT ALSI业务与营销负责人Patrick Huberts表示:“这一全新平台旨在满足人工智能革命硬件需求,它将高精度激光加工与智能自动化相结合,助力下一代半导体制造。该平台是先进封装、人工智能、车用功率器件及移动终端应用的理想选择,同时也是实现高良率等离子切割前道准备的最优解决方案。”

ALSI LASER1206,ASMPT推出的全自动激光切割及开槽系统。
图片来源:ASMPT

ALSI LASER1206 预对准工位可检测晶圆缺口与平边,并对晶圆进行精准对准,为后续激光切割或开槽工艺做准备。
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ALSI LASER1206集成式涂覆与清洗工位可精准涂覆保护膜,并可靠去除颗粒与残留物,确保晶圆达到最优品质与最高良率。
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全自动ALSI LASER1206系统采用专利多光束紫外激光技术,实现高精度晶圆切割与开槽,同时将热影响降至最低,完美适配硅、碳化硅、氮化镓及其他先进半导体材料。
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