重大突破！中国新一代光刻机亮相！

11月5日，第九届中国国际进口博览会在国家会展中心（上海）正式拉开帷幕。在这场全球瞩目的开放盛会上，SMEE（上海微电子）携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型亮相，直观展现我国前道光刻装备自主化的关键阶段性成果。

光刻设备被誉为芯片制造的核心装备，是半导体产业链里最难攻克的高地之一。成立于2002年的SMEE，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体。

公司业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。长期以来，SMEE锚定产业技术前沿，坚持自主创新，同时联动上下游产业链伙伴协同攻坚，携手搭建开放、稳定的半导体产业生态，在稳健经营的基础上，持续为国内半导体产业高质量发展筑牢装备底座。

本次展出的光刻机模型采用透明剖视设计，可以清晰看见整机光学光路与内部机电系统的完整链路布局。

这一平台属于国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线。整机最核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统，全部实现全链条自主可控，拥有稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

从量产落地数据来看，国产前道干式光刻机的实力已经得到产线验证：

✅ 成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率持续追赶国际标杆；

✅ 多台设备落地国内头部逻辑、存储量产线，实现长期稳定运行；

✅ 累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。

这套装备已经形成自主技术可控、国产替代落地、产业链安全可靠的核心优势，能够全面支撑半导体、泛半导体产业的发展需求。

随着国产光刻装备持续迭代、规模化落地，我国半导体产业链的自主安全底盘，也将变得更加坚实。

资料来源｜上海微电子装备集团官方公众号《SMEE亮相第九届中国国际进口博览会》

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