纳米压印光刻

• 比肩光刻机——国产首台纳米压印设备交货

  Note: The English version is provided below. 摘要： 近期璞璘科技在纳米压印领域取得重要进展，8 月 1 日，其自主设计研发的首台 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。该设备配备了自主研发的模板面型控制系统、纳米压印光刻胶喷墨算法系统、喷墨打印材料匹配及软件控制系统。通过创新材料配方与工艺调控，提高胶滴密度与铺展度

  王兵

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  2025/08/06

  与非观察 芯耀计划

  
• 光刻技术，有了新选择

  光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。

  半导体产业纵横

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  2024/08/08

  光刻技术 电子束

  

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