SK海力士砸554亿采购EUV光刻机

SK 海力士将引进规模达12 万亿韩元（554亿元人民币）的 EUV（极紫外光刻）设备，加快扩大产能与推进先进工艺转型。

SK 海力士3月 24 日发布公告称，已决定从荷兰设备厂商ASML引进 EUV 光刻机。总采购金额约为11.9496 万亿韩元，相当于 2024 年末公司总资产的 9.97%。

交易将在 2027 年 12 月之前历时约 2 年完成，金额包含设备引进、安装及改造费用。

此次投资是为应对包括高带宽存储器（HBM）在内的 AI 存储器需求增长，以及通用 DRAM 需求扩大的举措。公司考虑到服务器、移动等前端产业中通用存储器需求也在持续增长，计划着力保障供应稳定。

特别是，公司计划通过引进 EUV 设备，加速向6 代（1c）工艺转型，并扩大 AI 存储器产品阵容。1c 工艺是 SK 海力士全球首创的技术，预计将应用于下一代 HBM、DDR5、LPDDR6 等主力产品。

此前，SK 海力士接连开发出 1c 工艺 DDR5 DRAM 和 LPDDR6 产品，巩固了微缩工艺竞争力。该工艺的特点是提升生产效率与功耗效率，并提高数据处理速度。

SK 海力士正全力扩大生产基础，包括尽早最大化清州 M15X 工厂产能，以及将二期洁净室投产时间较原计划提前 2 个月等。

公司还计划快速扩充预计于明年 2 月启动洁净室投产的龙仁一期晶圆厂的生产基础。

SK 海力士相关负责人表示：“将通过基于 EUV 的先进工艺转型，强化 AI 存储器竞争力，并稳定扩大通用存储器供应。应对暴增的全球存储器需求，巩固市场领导地位。”

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