半导体光刻胶去胶液（剥离液）国产方案 - 亦盛科技

亦盛科技推出光刻胶去胶液产品，助力半导体图形化工艺洁净升级

在半导体芯片制造的光刻工艺中，去胶（即光刻胶去除）是必不可少的关键环节。无论是刻蚀、离子注入后的残留光刻胶清除，还是晶圆制程中的表面净化，去胶液（剥离液） 的性能直接关系到后续工艺的稳定性和芯片最终良率。

广州亦盛环保科技有限公司（以下简称“亦盛科技”）依托在半导体湿电子化学品领域十余年的技术积累，正式推出高性能光刻胶去胶液系列产品，为半导体芯片光刻图形化工艺提供更洁净、更高效的解决方案。

产品技术优势

去胶能力强：可有效去除各类光刻工艺后残留的光刻胶，包括干法刻蚀后的聚合物残留物；

基材兼容性好：配方设计充分考虑对金属层及低介电材料的保护，腐蚀性低；

金属离子含量低：满足半导体先进制程对洁净度的严苛要求；

易于清洗：去胶后可通过去离子水或配套清洗液快速漂洗，无残留。

应用场景

亦盛科技光刻胶去胶液主要面向晶圆制造与先进封装领域，包括逻辑芯片、存储芯片、功率器件及化合物半导体等工艺中的去胶步骤，适用于槽式与单片式湿法清洗机台。

公司实力

广州亦盛环保科技有限公司成立于2008年，公司是一家专注于化学新材料研发制造的国家高新技术企业，产品包括高分子材料及湿电子化学品，广泛应用于半导体和3C行业。

为深度服务全国客户，公司设立了苏州分公司，并在广东清远自建了占地超过1万平方米的现代化生产基地，形成了辐射华南与华东两大核心经济圈的产业布局，确保以高效的响应速度与稳定的供应能力，助力客户产业升级。

研发驱动，构建技术壁垒

        亦盛科技坚持以技术创新作为企业发展的核心引擎。公司建有现代化的研发中心，下设高分子材料实验室、湿电子化学品实验室及分析检测实验室，配备各类高端研发与检测设备百余套，能够完成从分子结构设计到产品应用验证的全流程开发。我们深知产学研融合的力量，与国内多所高校建立了深度“产学研”合作关系，构建了集理论基础研究、前瞻产品开发、工艺应用验证于一体的“三维一体”研发体系。

        在知识产权领域，公司荣获“国家知识产权优势企业”称号。我们积极推动研发成果的专利保护，目前已累计申请专利总数突破72项，其中授权发明专利45项，拥有高新技术产品12项，且核心专利与产品数量持续稳步增长，构建了坚实的技术护城河。

资质荣誉，铸就卓 越品质

        亦盛科技在追求卓 越的道路上，获得了多项国家 级与省级权 威认证，是客户值得 信 赖的合作伙伴：

管理体系认证：ISO9001质量管理体系、ISO14001环境管理体系、ISO45001职业健康安全管理体系、知识产权管理体系

核心荣誉称号：

国家高新技术企业

国家知识产权优势企业

广东省专精特新企业

广东省守合同重信用企业

随着半导体国产替代进程加速，光刻胶配套试剂的本地化供应需求持续攀升。亦盛科技将依托自身研发实力与规模化生产能力，为客户提供高性价比的光刻胶去胶液产品，助力国产半导体制造供应链的稳定与自主可控。

（如需了解详细产品参数或申请样品测试，欢迎联系广州亦盛环保科技有限公司销售及技术团队。）