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1月19日，全球光刻机巨头ASML公布了最新的财报，其2021年第4季度及2021全年业绩均创历年新高且优于预期。
ASML还宣布其2022年一季度，其第二代高数值孔径（High-NA）光刻机TWINSCAN EXE:5200获得了首个订单，这也意味着这款可以被用于2nm芯片制造光刻机的有望在2024年交付。
2021年营收186亿欧元，毛利率高达52.7%
根据财报显示，ASML 2021年第4季营收为49.86亿欧元，净利润为17.74亿欧元，毛利率达54.2%。新增订单金额为70.50亿欧元。2021年全年营收达186.11亿欧元（同比增长35%），净利润为58.83亿欧元，毛利率为52.7%。2021年全年新增订单为262.40亿欧元，其中一半来自于EUV光刻机。
ASML总裁兼CEO温彼得 (Peter Wennink) 表示，ASML第4季的营收达到50亿欧元，符合财测；由于强劲的升级与服务收入，2021年的毛利率达到54.2%，优于财测。
2021年出货了42台EUV光刻系统
2021年ASML来自光刻系统方面的营收为136.53亿欧元，总共销售了287台光刻系统。具体的销量方面，EUV光刻系统42台，贡献了约63亿欧元，销售额占比高达46%；ArFi光刻系统81台，销售额占比36%；ArF光刻系统131台，销售额占比10%；i-Line光刻系统33台，销售额占比1%。
从销售的光刻系统的最终用途来看，70%被用于逻辑半导体制程，30%被用于存储芯片的制造。从光刻系统最终出货地来看，中国台湾地区贡献的销售额占比高达44%，韩国占比35%，中国大陆占比16%。
温彼得表示：“2021年ASML的EUV出货量增长并不高，这主要是由于我们在第三季度宣布的物流中心和供应链问题影响的结果。但这完全由EUV光刻机的安装及升级等基础收入补偿了，特别是我们能够向客户提供的生产力升级。我们的客户急需额外的容量，需求量很大。这部分的销售额为15亿欧元。在我们称之为生产力提升包的推动下，安装了大量选项，为客户提供了额外的晶圆容量。”
DUV 业务方面，ASML表示，XT:860N 已于 2021 年底交付给其第一个客户。这种 KrF 系统提供了更好的性能和更低的成本。2022年，随着 NXT:870 的引入，ASML将把 KrF 添加到 NXT 平台中，使其能够在生产率和拥有成本方面迈出重要的一步，并在 ArFi 和 ArFDry 中构建这个平台上的现有经验。
应用业务方面，首款 eScan1100 多束检测系统计划在未来几周内交付，该系统是专为大批量生产设计的。由于采用了 25 束（5x5），预计 eScan1100 与单一电子束检测工具相比，可增加 15 倍的吞吐量，用于目标在线缺陷检测应用。
单价超3亿美元，TWINSCAN EXE:5200已接获首个订单
由于EUV光刻系统中使用的极紫外光波长（13nm）相比DUV 浸入式光刻系统（193 nm）有着显着降低，多图案 DUV 步骤可以用单次曝光 EUV 步骤代替。可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本。
自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来，三星的7nm/5nm工艺，台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产都是依赖于0.55 数值孔径的EUV光刻机来进行生产。
目前，台积电、三星、英特尔等头部的晶圆制造厂商也正在大力投资更先进的3nm、2nm技术，以满足高性能计算等先进芯片需求。而3/2nm工艺的实现则需要依赖于ASML新一代的高数值孔径 (High-NA) EUV光刻机EXE:5000系列。
ASML目前正在开发当中的高数值孔径 (high-NA) EUV光刻机是基于 0.33 数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的迭代产品，其具有 0.55 数值孔径的镜头，分辨率为 8 纳米，而现有的0.33 数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的分辨率为 13 纳米，使得芯片制造商能够生产3/2nm及以下更先进制程的芯片，并且图形曝光的成本更低、生产效率更高。
但是，0.55 NA EUV光刻系统造价相比第一代的EUV光刻机也更高。据 KeyBanc 称，一台0.55 NA EUV光刻系统的成本预计为3.186亿美元，而目前正在出货的EUV光刻系统则为1.534亿美元。
值得注意的是，ASML总裁兼CEO温彼得透露，在2021年第四季度，ASML获得的价值为70.50亿欧元的新增订单当中，0.55 NA EUV光刻系统和0.55 NA EUV光刻系统的订单金额就达到了26亿欧元。
温彼得表示，ASML在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的订单。自2018年以来，ASML已经收到四份TWINSCAN EXE:5000的订单。据了解，EXE:5000主要面向的是3nm工艺。而第二代的0.55 NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200将会被用于2nm工艺的生产。
温彼得透露，在2022年初，ASML已收到了下一代的TWINSCAN EXE:5200的第一份订单，这标志着ASML在引入 0.55 NA EUV光刻的道路上又迈出了一步。
根据ASML的路线图，TWINSCAN EXE:5000将会在今年下半年出货，每小时可生产185片晶圆。而TWINSCAN EXE:5000将会在2024年底出货，每小时可厂商超过220片晶圆。
在2021年7月底的“英特尔加速创新：制程工艺和封装技术线上发布会”上，英特尔已宣布将在2024年量产20A工艺（相当于台积电2nm工艺），并透露其将率先获得业界第一台High-NA EUV光刻机。ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机的首份订单正是来自于英特尔。
ASML总裁兼首席技术官Martin van den表示，英特尔对ASML在High-NA EUV技术的远见和早期承诺证明了对摩尔定律的不懈追求。与目前的EUV系统相比，ASML的扩展EUV路线图以更低的成本、时间周期和架构等方面提供了持续的改进，这将推动芯片行业未来十年发展的动力所在。
对于英特尔来说，抢先获得ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机，也正是英特尔笃定其制程工艺能够超越台积电、三星重回领先地位的关键。
不过，台积电和三星此前应该也在争夺Hight NA EUV光刻机。去年10月初，三星在10月初初已宣布，将在2022年上半年量产3nm工艺，并计划在2025年抢先台积电量产2nm。为此，有消息显示，三星也在紧急抢购一台Hight NA EUV光刻机，并要求ASML直接拉到三星工厂内进行测试。另外，台积电在此前的法说会上也对外，2025年台积电2nm制程不论是密度或是效能，都将是最领先的技术。
柏林工厂火灾不会影响2022年出货
今年1月3日，ASML位于德国柏林的一座工厂发生火灾，大火在当晚被扑灭，没有人员在火灾中受伤。
资料显示，ASML德国柏林工厂是一座零部件工厂，主要生产晶圆台、光罩吸盘和反射镜模块等DUV和EUV光刻机所需的零部件。
随后，ASML在官网上表示，火灾后DUV光刻机零部件的生产部分中断，但很快生产已经恢复，预计他们将以一种不会影响DUV光刻机产量和收入计划的方式进行补救。另外，柏林工厂火灾还影响到了EUV光刻机一个零部件的生产区域，恢复计划仍在进行中，他们已决定采取相关的措施，将对EUV光刻机客户、产出计划及服务的潜在影响降到最低。
在此次的财报会议上，温彼得表示，柏林工厂火灾在几个小时内就已被扑灭，但仍然有重大损失。对于DUV光刻机，虽然有一些初始干扰，但其认为不会对2022年的产量产生任何影响。另外，EUV光刻机所需的晶圆钳的生产受到了影响，这是一个非常复杂但非常重要的模块。但通过我们的努力，相信能够应对这种情况，我们认为不会看到对我们的EUV光刻机的2022年的产量生产大的影响。
2022年一季度营收约为33-35亿欧元
ASML也公布2022年第一季财测，预估营收净额约为33亿到35亿欧元之间，毛利率约49%。ASML预计一季度研发成本约为7.6亿欧元，SG&a成本约为2.1亿欧元。
ASML总裁兼CEO温彼得表示：“第一季度净销售额指导值较低的原因是大量快速发货，使得约20亿欧元的预计收入将从第一季度转移到随后的季度。而去年四季度快速发货推迟到今年一季度确认的金额约为3亿欧元。”
“客户对于光刻系统的需求超过了我们的生产能力所能满足的范围。终端市场的强劲需求，给我们的客户带来了增加晶圆产量的压力。为了支持我们的客户，我们为他们提供了高生产率升级解决方案，并缩短了我们工厂的生产周期以交付更多的光刻系统。减少交付周期时间的一种方法是，通过快速装运过程，跳过我们工厂的一些测试。最终测试和正式验收将在客户现场进行，通常验收程序需要几周的时间（有时三到四周）。这虽然将导致这些发货的收入延迟确认，直到客户正式接受，但这确实为我们的客户提供了更早获得增加晶圆输出能力的机会。”温彼得进一步解释到。
2022年营收预计增长20%
对于2022全年的业绩预期，ASML也比较乐观的认为会保持同比约20%左右的营收增长。
“2022年将是一个好年头。与2021相比，我们预计增长率约为20%。这是一个很好的数字，因为你必须考虑到我们在2022年年底前也会有一些‘快速发货’，导致部分收入转移到2023年确认。我们目前认为2020年年底大约有六个EUV系统将被快速装运发货。如果将延迟确认的收入加上，那么2022年的营收将同比增长25%左右。”温彼得说到。
2022年将出货55台EUV光刻机
对于2022年的EUV光刻机的出货量，ASML预计将会达到55台。正如起前面提到到的，其中约有6台的收入将会推迟到2023年确认。另外，预计2023年EUV光刻机的出货量将增长到60台。
在DUV光刻机业务方面，ASML认为，DUV光刻机的出货2022年将会尤其强劲。因为它涉及了所有行业，包括存储和逻辑芯片制造。特别是芯片的持续短缺导致了对DUV光刻机的强烈需求。
温彼得预测，“与2021年相比，2022年我们的DUV光刻机业务可能会有大约20%的增长。”
另外，在安装基础选项方面，温彼得也表示，2021年有一个非常强劲的增长，客户对于安装基础选项的需求增加了很多，以增加更多的晶圆产量，ASML仍然预计2022年这块仍将增长约10%。
编辑：芯智讯-浪客剑
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