三星电子前高管被控向中国公司泄露核心半导体技术,在一审中被判处有期徒刑七年。这是迄今为止因技术泄密罪判处的最长刑期。
首尔中央地方法院第25刑事部(主审法官池贵渊)2月19日对因违反《工业技术保护法》等罪名被起诉的三星电子前副总裁金某判处有期徒刑7年、罚款2亿韩元,对合作公司A公司员工方某判处有期徒刑2年6个月。
法院表示,“这是严重犯罪行为,不仅严重阻碍良性竞争,使受害企业浪费大量时间和金钱,而且实际上会对韩国民族产业的竞争力产生重大负面影响。”法院还表示,“受害企业的损失不会小,尤其是对三星电子的损失可以预计会达到巨大数额。”
三星电子前副总裁金永哲被指控未经许可泄露有关三星电子的 18 纳米 DRAM 半导体工艺(一项关键的国家技术)的信息,并允许国外公司将其用于产品开发。检察机关认为国外公司是在获得三星电子相关情报后,成功量产半导体,并利用此类数据突破了技术障碍,于去年12月对金某某提起了有期徒刑20年。
韩国国家情报院此前已发现其技术泄露的情况,并于2023年5月向检察机关请求调查。
韩国检察机关怀疑,金某于2016年跳槽至新公司时,泄露了半导体“沉积”相关数据及七项核心工艺相关技术资料,并收受了数千亿韩元贿赂。
调查还发现,他们以税后至少5亿韩元的价格从三星电子及其关联公司挖走了约20名技术人员。
1241