半导体清洗：Piranha溶液

Piranha是一种强氧化性的混合液体，通常由浓硫酸（H₂SO₄）和过氧化氢（H₂O₂）按一定比例混合制成。它在半导体制造和微电子工艺中，作为清洗剂广泛应用，用于去除有机污染物和残留物。

其强大的氧化能力使其能够迅速分解和去除晶圆表面的有机污染物，比如光刻胶残留和各种有机溶剂痕迹。

通过清洗，晶圆表面不仅达到极高的洁净度，还能形成富含羟基官能团的活化层，从而提高后续工艺中薄膜的润湿性和附着力。

清洗过程中，Piranha溶液有时会在硅片表面生成一层极薄的氧化膜，这层氧化膜有助于提升后续工艺的均匀性和界面质量。

通常，Piranha溶液会配合超纯水冲洗及其他清洗方法一起使用，构成半导体晶圆表面清洁的关键环节。

尽管其清洗效果卓越，但由于强烈的腐蚀性和高温反应特性，操作时必须严格遵守安全规范，以防止对设备和人员造成伤害。

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