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TFT-LCD液晶面板阵列激光修复方案

01/26 10:44
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一、引言

阵列段(Array)是TFT-LCD液晶面板制造的核心工序,主要完成薄膜晶体管(TFT)、栅极线、数据线等关键结构的制备。该制程涉及光刻、沉积、刻蚀等多道精密工艺,易因光刻偏差、杂质残留、静电损伤等因素产生线路断路/短路、TFT性能失效等缺陷,这类缺陷若未及时修复,将直接导致后续Cell、Module工序产品报废,显著降低整体良率。激光修复技术凭借高精准、非接触的优势,成为阵列段缺陷修复的核心手段。本文针对阵列段缺陷特性,提出一套精准高效的TFT-LCD液晶面板阵列激光修复方案,为提升阵列段良率、降低生产成本提供技术支撑。

二、阵列段缺陷特性与修复方案设计依据

阵列段缺陷主要分为两类:一是线路缺陷,包括栅极线、数据线的断路与短路,其中断路多由刻蚀过度、膜层脱落导致,短路则源于光刻残留、金属颗粒污染;二是TFT器件缺陷,如半导体层损伤、源漏极接触不良导致的器件断路或短路,表现为对应像素暗点或亮点。方案设计核心依据为:精准匹配缺陷类型与阵列段材料特性(如非晶硅、金属电极、绝缘层),选择适配的激光参数与修复策略,确保修复过程不损伤周边正常膜层与器件结构,同时保障修复后阵列基板的电学性能稳定。

三、阵列激光修复方案核心内容

(一)修复设备与参数配置

选用紫外纳秒激光修复设备(波长355nm),该波长激光光子能量高,可精准作用于阵列段微小缺陷区域,热影响区控制在3μm以内。参数配置根据缺陷类型动态调整:针对线路短路缺陷,激光能量密度设为0.8~1.2 J/cm²,脉冲宽度5~10ns,通过激光热效应使短路残留金属或杂质气化剥离;针对线路断路缺陷,采用激光诱导沉积模式,能量密度0.5~0.7 J/cm²,脉冲频率50~100kHz,配合金属前驱体气体,在断点处沉积导电金属层,重建线路连接;针对TFT半导体层损伤,采用激光退火模式,能量密度0.3~0.5 J/cm²,脉冲宽度20~30ns,改善半导体层晶体结构,恢复载流子传输特性。

(二)修复实施流程

修复流程采用“检测-定位-修复-复检”闭环模式:第一步,通过高分辨率光学成像与AI视觉检测系统,对阵列基板进行全幅扫描,识别缺陷位置、类型及尺寸,检测精度达0.1μm;第二步,基于检测数据,运动控制系统驱动激光头精准定位至缺陷区域,定位重复精度≤0.5μm;第三步,根据缺陷类型调用预设修复参数,执行激光修复操作,过程中实时监测激光光斑与缺陷的匹配状态;第四步,修复完成后,通过电学测试与光学复检验证修复效果,确保缺陷消除且无二次损伤,未达标产品重新优化参数进行二次修复。

四、方案实施的关键保障措施

为确保修复方案稳定落地,需建立三大保障措施:一是环境保障,修复区域洁净度控制在Class 10级,避免粉尘、异物二次污染阵列基板;二是设备保障,定期对激光发生器、运动平台、检测系统进行精度校准,确保设备长期运行稳定性;三是工艺保障,建立缺陷类型与修复参数的数据库,通过大数据分析优化参数匹配策略,同时对操作人员进行专业培训,规范操作流程,提升修复一致性。

显示面板激光修复设备:精密修复解决方案​

新启航水冷激光修复设备搭载NW激光器,整合精密光学系统、镭射加工/观测专用显微镜及光学物镜,构建起高精度修复核心架构。设备采用X/Y轴自动精细调节、Z轴半自动智能调节模式,搭配大理石精密光学基础载物平台,以卓越的稳定性和操控性,实现对工件特定材质层短路缺陷的精准修补,展现出强大且专业的镭射修复能力。

一、多元适配的应用场景​

本设备专为TFT-LCD系列液晶面板修复设计,可覆盖15.6寸至120寸全尺寸范围,精准攻克LCD面板常见不良现象。无论是恼人的亮点、暗点,还是复杂的断半线、竖彩线、竖彩黑线、单竖黑线、双竖黑线及横网等缺陷,都能通过先进的镭射修复技术快速处理,为液晶面板品质提升提供可靠保障。​

二、智能协同的先进控制系统​

设备采用前沿多线程技术、COM技术,深度融合运动算法与图像视觉算法,实现电机驱动系统、激光控制系统、图像识别系统的高效联动。凭借微米级精准控制能力,可快速、准确锁定产品缺陷点。此外,设备提供全自动四孔鼻轮调焦功能,并支持选配四孔电动鼻轮,满足多样化使用需求。同时,简洁直观的操作界面设计,大幅降低操作人员的学习成本与使用门槛。​

三、灵活高效的高兼容性软件系统​

针对不同型号激光控制器通讯协议的差异,本设备软件系统进行深度优化。通过将多种激光器通讯协议集成于同一软件,操作人员仅需通过简单的软件选项,即可激活当前使用的激光器。这种设计使激光器对操作者完全透明,让操作人员专注于工艺与功能实现,无需关注激光器具体型号差异,显著提升工作效率与便捷性。​

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