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混合键合

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混合键合(Hybrid Bonding)结合了电介质-电介质键合和金属-金属键合,无需使用焊料或其它粘合剂即可实现晶圆与晶圆、芯片与晶圆或芯片与芯片的互连。

混合键合(Hybrid Bonding)结合了电介质-电介质键合和金属-金属键合,无需使用焊料或其它粘合剂即可实现晶圆与晶圆、芯片与晶圆或芯片与芯片的互连。收起

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  • 混合键合取代微凸块:异构集成引爆3D封装互连技术革命
    异构集成推动封装缩放进入新阶段,从传统的集成与聚合转向集成与去聚合的新范式。封装缩放聚焦于互连结构的微缩化,包括缩减和扩展两个维度。互连技术沿微凸块到混合键合路径演进,从传统焊料凸块到无焊料热压键合再到混合键合,键合节距不断缩小。玻璃基板技术满足高密度互连需求,因其优异的物理和电气性能。D2W键合工艺应对良率和对准精度挑战,通过创新技术和优化工艺提高键合质量。混合键合制造面临材料与工艺复杂性,需要解决铜表面清洁度、晶粒结构和平坦度等问题。3D系统架构从2.5D向全3D集成演进,通过硅通孔技术实现垂直互连,催生了Wafer-on-Wafer和Chip-on-Wafer等多层混合集成架构。
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  • 混合键合(Hybrid Bonding)
    混合键合技术通过金属与介电材料的同时键合,实现了芯片间的高密度、低延迟连接,显著提升通信带宽与速度,降低寄生效应,适用于3D和2.5D封装,成为下一代关键互连技术,推动异构集成和高性能计算的发展。
    混合键合(Hybrid Bonding)
  • 下一个半导体周期,这些领域是关键
    集成芯片间的竞争日益激烈,英特尔、台积电和三星代工都在提供全3D IC的基础组件,以实现性能提升和功耗降低。据Future Market Insights预测,3D IC和2.5D IC封装市场将以9.0%的年复合增长率增长,至2035年市场规模将达到1380亿美元。中国以12.2%的增速领先全球市场。 芯片集成技术,尤其是芯粒(Chiplet)为核心的异构集成,成为推动行业发展的关键方向。通过先进封装技术,芯粒可以在单一封装内实现高效集成,优化成本与性能。EDA工具和方法、数字孪生、多物理场仿真等技术革新,以及先进设备的支持,对于实现3D集成至关重要。 混合键合设备是实现高性能计算的关键设备,荷兰的BESI公司和韩国的韩美半导体等企业在该领域取得显著进展。国内厂商如拓荆科技和迈为股份也开始布局混合键合设备。 存算一体技术解决了传统计算架构中的“冯·诺依曼瓶颈”,通过3D封装工艺实现高带宽内存与逻辑计算芯片的垂直堆叠,降低数据搬运的能耗与延迟。国际和国内半导体厂商都在积极布局存算一体技术,推出商业化产品。
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  • 混合键合,大热
    混合键合技术因其在高密度互联和小型封装尺寸方面的显著优势,正迅速成为先进封装领域的热门话题。尤其是在HBM(High Bandwidth Memory)应用中,混合键合技术有望在未来取代传统的热压键合(TCB)技术,成为主流解决方案。多家半导体巨头,如三星、SK海力士和美光,已经开始投资和采用混合键合技术,以应对不断加速的内存更新换代需求。与此同时,设备制造商如BESI和ASMPT也在积极推动混合键合设备的研发和生产,预示着这一技术将在未来的半导体行业中扮演重要角色。
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  • 从中国香港走出的芯片设备巨头
    1975年某天的中国香港午后,维多利亚港阴云密布,站在岸边的27岁年轻人林师庞眉头紧锁。
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  • 韩国HBM龙头宣布HBM5 全面拥抱混合键合 这是为何?
    7月22日,韩国半导体产业协会在京畿道城南市召开"商用半导体技术创新论坛"。三星电子DS事业部半导体研究院未来技术组执行副总裁金大宇在演讲中指出:"当HBM堆叠层数突破16层时,传统热压键合(TC)技术将面临瓶颈",并透露"公司计划自16层HBM产品起采用混合键合方案"。
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  • 存储大厂押注混合键合!
    三星电子正引领高带宽存储器(HBM)技术向更高层数和更先进互连方案演进,计划逐步引入混合键合(Hybrid Bonding)技术,以克服当前制造工艺的物理极限。
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  • 【先进封装】关键工艺技术对比:无助焊剂TCB vs.混合键合
    在半导体封装技术持续迭代的背景下,新型键合工艺正成为突破芯片集成瓶颈的关键。作为当前的研究热点,无助焊剂热压键合(Fluxless TCB)技术凭借其独特的工艺优势,在AI加速器、高带宽存储器(HBM)及光电集成等领域展现出重要的价值。无助焊剂TCB创新性地采用等离子体处理与可控还原气氛相结合的方式,在无需助焊剂的条件下实现了高洁净度的金属键合
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  • 混合键合(Hybrid Bonding)工艺介绍
    所谓混合键合(hybrid bonding),指的是将两片以上不相同的Wafer或Die通过金属互连的混合键合工艺,来实现三维集成,在Hybrid Bonding前,2D,2.5D及3D封装都是采用焊锡球凸点(solder bump)或微凸点(Micro bump)来实现芯片与基板
  • 混合键合,下一个焦点
    作者;丰宁 "混合键合" 之战,似乎已箭在弦上。 不管是在晶圆代工龙头、存储芯片巨头还是半导体设备龙头的发展路线图中,几乎都能看到 "混合键合(Hybrid Bonding)" 这一关键词。 那么,为何这项技术能让台积电、三星等巨头集体押注?它又凭什么征服先进封装的下一个十年? 01 混合键合,下一个十年 随着摩尔定律逐渐进入其发展轨迹的后半段,芯片产业越来越依赖先进的封装技术来推动性能的飞跃。这
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  • 什么是混合键合?
    混合键合(Hybrid Bonding)结合了电介质-电介质键合和金属-金属键合,无需使用焊料或其它粘合剂即可实现晶圆与晶圆、芯片与晶圆或芯片与芯片的互连。它不像传统热压键合(如TCB)那样依赖焊料,也不同于直接分子键合不带金属。
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  • 青禾晶元发布全球首台独立研发C2W&W2W双模式混合键合设备
    中国半导体键合集成技术领域的领先企业青禾晶元半导体科技(集团)有限责任公司(简称“青禾晶元”)宣布,正式推出全球首台C2W&W2W双模式混合键合设备SAB8210CWW。作为先进半导体键合集成技术与解决方案的提供商,青禾晶元此次发布标志着公司在技术创新领域的又一重要突破。 青禾晶元新推出的混合键合设备SAB8210CWW具备多尺寸晶圆兼容、超强芯片处理能力、兼容不同的对准方式等优势,可以帮
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  • 全球首台,独立研发!新一代C2W&W2W混合键合设备即将震撼发布!
    由青禾晶元集团独立研发的全球首台C2W&W2W双模式混合键合设备——SAB 82CWW系列即将重磅登场!这是一场颠覆传统的技术革命,一次“延续摩尔”与“超越摩尔”的双重进化! 随着半导体制程工艺逼近1nm物理极限,摩尔定律的延续面临巨大挑战。行业亟需通过“延续摩尔”(More Moore)与“超越摩尔”(More than Moore)两条路径寻找新突破。无论是3D堆叠技术提升集成密度,还
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    2025/03/06
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  • SK海力士HBM4E将导入混合键合技术
    SK 海力士从第七代高带宽存储器(HBM4E)开始应用“混合键合”。混合键合是一种直接用铜连接DRAM顶部和底部的技术。由于它不需要HBM目前使用的微凸块(焊球)和键合材料,因此有望给半导体行业带来重大变化。
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  • 总投资60亿12英寸晶圆级3D混合键合制造项目,2029年产能达到3.5万片/月
    根据未来半导体《2024中国先进封装第三方市场调研报告》显示,以
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  • 混合键合3D小芯片集成技术为摩尔定律降本提效
    在2023年第一届Chiplet峰会上,Yole表示,基于小芯片(Chiplet)的处理器市场将从2022年的620亿美元增长到2027年的1800亿美元,复合年增长率约为24%(图1)。在IP和/或互连指南的供应链内实现进一步标准化的承诺给行业带来了乐观情绪。
    747
    2024/05/21
    混合键合3D小芯片集成技术为摩尔定律降本提效
  • 先进封装技术之争 | 混合键合已破亚微米,全球合作深入人心,中国不可坐以待毙
    半导体行业领导羊正在寻求 3D 结构、封装和互连创新,以提升性能并扩展小型化封装的功能。由于先进封装是通过互连布线密度实现的,因此需要混合键合等技术来实现有效的芯片堆叠,混合键合以细间距(<1 – 20μm)形成直接铜-铜键合,或将广泛替代微凸块和铜柱凸块。
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  • 西门子与联华电子合作开发 3D IC 混合键合流程
    西门子数字化工业软件近日与半导体晶圆制造大厂联华电子合作,面向联华电子的晶圆堆叠 (wafer-on-wafer) 和芯片晶圆堆叠 (chip-on-wafer) 技术,提供新的多芯片 3D IC (三维集成电路) 规划、装配验证和寄生参数提取 (PEX) 工作流程。
  • 什么是混合键合?为什么要使用混合键合?
    混合键合(Hybrid Bonding)作为一种先进的键合技术,正在逐渐成为集成电路制造业中的重要工艺。通过结合晶片间和晶片内键合的优点,混合键合技术可以实现高性能、高密度和高可靠性的封装连接。

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