• 正文
  • 推荐器件
  • 相关推荐
申请入驻 产业图谱

匀胶转速过大为什么会造成光刻胶条纹?

2024/07/22
853
加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

知识星球(星球名:芯片制造与封测技术社区,星球号:63559049)里的学员问:匀胶后发现晶圆表面出现很多条纹,什么原因导致的?有什么解决思路?

为什么会出现光刻胶条纹?

光刻胶条纹的出现最根本原因是胶面的不平整,均匀性不好,有的部位胶比较厚有的部位胶比较薄,以条纹状的形式分布。这种原因是由于匀胶的转速过大导致的。

转速过大为什么会造成匀胶的均匀性差?

光刻胶在高速旋转时,上方的空气流动对于匀胶的均匀性影响很大。气流分为层流与湍流,用雷诺数表示:

Re为雷诺数, ω 是衬底的角速度(rad/s),r 是衬底的半径(m),而 v 是空气的运动粘度。通常,空气的运动粘度在标准大气压下和室温(约20°C)时大约是1.56×10-5m2/s。从公式可以看出,晶圆尺寸越大,转速越快,晶圆上方流体的雷诺数越大。根据经验,当雷诺数Re大于302000时,会被认为是过度湍流,过度湍流会造成蒸发速率不均匀使得溶剂在某些区域的蒸发速度比其他区域快,形成条纹。因此,旋转速度不能过高。

另外,高转速会造成震动过大,加剧匀胶的不稳定性。

欢迎加入我的半导体制造知识星球社区,目前社区有1900人左右,是国内最大的半导体制造学习平台。在这里会针对学员问题答疑解惑,上千个半导体行业资料共享,内容比文章丰富很多很多,适合快速提升半导体制造能力,介绍如下:     《欢迎加入作者的芯片知识社区!》

 

推荐器件

更多器件
器件型号 数量 器件厂商 器件描述 数据手册 ECAD模型 风险等级 参考价格 更多信息
IRFR5305TRPBF 1 International Rectifier Power Field-Effect Transistor, 31A I(D), 55V, 0.065ohm, 1-Element, P-Channel, Silicon, Metal-oxide Semiconductor FET, TO-252AA, LEAD FREE, PLASTIC, DPAK-3
$1.09 查看
254M06QD100 1 Quantic Paktron RC Network, Bussed, 0.5W, 100ohm, 600V, 0.25uF, Through Hole Mount, 2 Pins, RADIAL LEADED, ROHS COMPLIANT
$9.92 查看
C1206C105K5RACTU 1 KEMET Corporation Capacitor, Ceramic, Chip, General Purpose, 1uF, 50V, ±10%, X7R, 1206 (3216 mm), Sn/NiBar, -55º ~ +125ºC, 7" Reel/Unmarked

ECAD模型

下载ECAD模型
$0.35 查看

相关推荐