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【海翔科技】瓦里安 VARIAN VIISta 900 3D 系列 二手离子注入设备

2小时前
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一、引言

离子注入机作为半导体制造前段制程的核心精密装备,通过精准掺杂改变半导体材料电学特性,是实现集成电路高集成度、高性能的关键工艺设备。其中中高能离子注入机凭借深层掺杂能力,在阱区形成、隔离层制备、深埋层掺杂等核心工艺中不可或缺。瓦里安(VARIAN)Kestrel II 750 系列作为中高能离子注入机领域的经典机型,凭借稳定的工艺性能、优异的深层掺杂精度与广泛的制程适配性,在二手设备市场保有量极高。海翔科技深耕二手半导体设备领域,针对该系列设备推出拆机检修与整机翻新双重服务,并建立标准化现场验机体系,通过精准测试核验设备性能,为半导体企业提供高可靠性、高性价比的二手设备解决方案,助力企业降本增效。

二、瓦里安 VARIAN Kestrel II 750 系列核心技术特性

Kestrel II 750 系列作为瓦里安面向成熟制程的中高能离子注入机主力机型,采用模块化架构设计,核心由长寿命潘宁离子源、高分辨质量分析器、高效线性加速管、双极静电扫描系统及全自动晶圆处理系统构成,专为阱区形成、隔离层制备、深埋层掺杂等深层工艺打造。在核心技术参数方面,该系列机型能量调节范围覆盖50--750keV,可精准满足中高能深层掺杂工艺需求;支持硼(B)、磷(P)、砷(As)等常用掺杂元素注入,剂量范围可达1E11~1E16 atoms/cm²,误差控制在±1%以内,能完美匹配45-90nm逻辑芯片功率半导体存储芯片制造的核心工艺需求。

该系列机型搭载高精度双极静电扫描系统,结合闭环均匀性控制技术,将注入角度误差精准控制在±0.2°以内,片内均匀性≤0.5%,保障深层掺杂工艺的一致性与重复性;配备差分抽运的超高真空系统,极限真空度可达5×10⁻¹⁰ Pa,有效降低杂质污染风险。针对中高能注入的工艺特性,机型内置高效离子束约束装置,提升束流稳定性,同时集成智能诊断与监控系统,具备精确的束流轮廓测量能力,可实现剂量实时校准与异常预警,确保工艺全流程可追溯,其平均故障间隔时间(MTBF)达1200小时以上,具备优异的运行稳定性与连续生产能力。

三、海翔科技拆机/整机服务与现场验机测试体系

海翔科技针对二手Kestrel II 750系列设备建立了专项拆机/整机服务体系,严格遵循瓦里安原厂标准及GB/T 15862-2012离子注入机通用规范。拆机服务聚焦离子源、加速管等核心部件的深度检修,通过专业工具完成拆解清洁、损伤检测与精准修复,重点排查加速管老化、离子源灯丝损耗等常见故障点,对磨损超标的易损件采用原厂兼容配件更换,关键组件更换率超50%;整机翻新则按“拆解-清洁-修复-组装-调试”标准化流程执行,确保设备性能复原达标。现场验机测试体系涵盖八大核心项目,包括设备物理状态确认、机械精度校准、安全联锁测试、真空泄漏检测、离子束性能测试、剂量均匀性验证、连续运行稳定性测试及文档完整性核查,所有测试数据实时记录并形成《现场验收测试报告》,确保设备性能可追溯、可验证。

应用场景方面,经翻新后的350D系列设备已广泛应用于45-90nm成熟制程逻辑芯片制造、功率半导体IGBT器件生产及汽车电子芯片制造等领域。在功率

四、二手设备的质量保障体系

海翔科技建立了涵盖设备筛选、翻新、校准、测试的全链条质量管控体系。在设备甄选阶段,仅选取运行时长≤8000小时、核心部件无重大损耗的原厂设备,通过技术评估、经济评估与安全评估三重审核后启动翻新项目;翻新过程全程记录拆解照片、更换部件清单及测试数据,形成完整的设备翻新档案;最终通过多轮工艺验证测试,确保设备满足多样化工艺需求,同时提供12个月免费维保服务,全面保障客户设备稳定运行。

海翔科技 —— 深耕二手半导体设备领域的专业领航者,凭借深厚行业积累,为客户打造一站式设备及配件供应解决方案。​

在半导体前段制程领域,我们拥有海量优质二手设备资源,精准匹配芯片制造的关键环节需求;后道封装设备板块,丰富的设备品类覆盖封装全流程,助力客户降本增效。

我们还提供齐全的二手半导体专用配件,从核心部件到精密耗材,为设备稳定运行保驾护航。海翔科技,以多元产品矩阵与专业服务,为半导体产业发展注入强劲动力。​

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