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光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。下面小编给大家介绍一下“中国首台7纳米光刻机 中国唯一一台7nm光刻机现在在哪里”
1.中国首台7纳米光刻机
最新消息，在上海科技研究社正在研究28纳米的浸没式光刻机，预计在今年交付 。那么14纳米的光刻机也就不在话下了。
值得庆祝的是，中国在光刻机领域上取得了重大突破，上海半导体公司于近日公布很多关于EUV光刻机的技术专利。除此之外，清华大学教授朱玉带领清华研发团队，也已经研发出了光刻机双工作台，中国已经是全球第二个可以生产双工作台的国家，非常值得庆祝。
随着中国光刻机的投用，美国大吃一惊，低估了中国实力，中国将会制造出更先进的技术，这是只是刚刚开始，面对美国各个方面的打压，只能是搬石头砸自己的脚，中国绝对不可能对此妥协，不会被牵着鼻子走。
在2022年，中国减少进口芯片约960亿，说明了，中国已经不需要别的国家的芯片，自己也可以研发出来。
随着社会科技的快速发展，我国芯片技术将会自给自足，而美国只能看着干着急，那些所谓的封锁，围剿最后只能是无稽之谈。在目前来看，中国研发的28纳米芯片已经实现，在不久的将来，我相信14纳米，7纳米甚至更高的科技也会随之而来。
2.中国唯一一台7nm光刻机现在在哪里
中国大陆唯一一台7nm光刻机是在武汉弘芯，其价值高达5.8亿元。但是，最近武汉弘芯因为资金链缺口太大，面临着项目随时有可能喊停的情况下，将这大陆唯一一台的7nm光刻机拉出去抵押了。
