今日,长电科技宣布成功完成基于玻璃通孔(TGV)结构与光敏聚酰亚胺(PSPI)再布线(RDL)工艺的晶圆级射频集成无源器件(IPD)工艺验证。
据悉,此次工艺验证的核心突破在于技术路径的创新升级。长电科技以TGV技术为基础构建3D互连骨架,在玻璃基板上实现了电感、电容等关键无源结构的高效集成,并将传统平面电感升级为3D结构,有效降低了高频损耗,同时显著提升器件品质因数(Q值)。
经对比评估显示,在既定测试条件下,该3D电感的Q值较同等电感值的平面结构提升接近50%,整体性能表现优于传统硅基IPD技术路线,助力射频模组往小型化、高集成度、高性能方向发展。
据悉,经过多年深耕,长电科技在射频封装领域已形成面向射频PA、RFFE模组与毫米波应用的封装与测试能力:支持SiP、AiP等多种封装形态,覆盖共形、分腔及选择性溅射屏蔽,并具备5G、毫米波、NB‑IoT及高速信号测试能力;同时提供射频系统仿真与封装协同设计,并配套覆盖射频微波、毫米波、5G蜂窝与无线通信等的一站式验证测试平台,支撑客户从芯片、封装到模组与整机的验证与导入。
长电科技副总裁、技术服务事业部总经理吴伯平表示,“面向AI算力芯片的迭代跃迁与6G通信的前瞻布局,长电科技将加速推进玻璃基TGV与PSPI晶圆级IPD技术在射频系统级封装中的工程化落地。”
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