中微公司H1净利28亿元，扣非后仅为11亿元

8月20日，中微公司交出2026年半年报：上半年营收66.91亿元，同比增长34.89%；归母净利润28.25亿元，同比暴增300.22%。

单看这两个数字，是科创板设备龙头的漂亮答卷。但把扣非归母净利润拎出来，只有11.23亿元，同比增108.36%。

归母净利与扣非净利之间，隔着一道17.03亿元的非经常性损益。换句话说，报表上28.25亿元的利润里，约六成来自卖股票和股权投资估值上涨。

我们细细来看。

54款产品覆盖超过30%的前道设备品类

中微公司主要为集成电路、LED外延片、功率器件、MEMS等半导体产品的制造企业提供刻蚀设备、薄膜沉积设备、化学机械抛光（CMP）设备、量检测设备、MOCVD设备及其他设备，目前，已开发出54种高端半导体设备，其中包括26种高能和低能等离子体刻蚀机设备，24种各类薄膜设备、CMP设备和量检测设备。

54种高端设备已覆盖超过30%的前道集成电路设备品类，这是主业最硬的底气。

营收增长的主引擎仍是刻蚀设备。CCP方面，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，60比1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，量产指标稳步提升，下一代超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场；ICP方面，适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展，加工的精度和重复性已达到单原子水平。

值得一提的是，中微公司12英寸高端刻蚀设备已用于国际客户3nm及以下关键工艺；在3D NAND环节，等离子刻蚀设备已量产128层及以上，并正开发极高深宽比刻蚀设备与工艺。

薄膜设备在快速补课，开发的多款薄膜沉积产品已推向市场。其中，钨系列CVD（化学气相沉积）、HAR（高深宽比）、ALD（原子层沉积）设备已覆盖存储器件所有钨应用，并拿到关键客户重复量产订单，金属栅系列ALD氮化钛等产品完成先进逻辑客户验证。

MOCVD的基本盘依旧稳固，产品应用覆盖蓝光LED、深紫外光LED、Mini-LED、Micro-LED、硅基氮化镓功率器件。

此外，上半年公司完成对众硅公司的控股收购，补齐化学机械抛光（CMP）短板，实现了“干法+湿法”的整体解决方案跨越。

其他财务指标方面：上半年研发投入20.41亿元，占营收30.51%，研发人员1908名，占比过半；存货76.66亿元、合同负债27.72亿元，都是在手订单的先行指标；经营现金流净额6.85亿元，同比增长237%，回款质量同步改善。

非经常性损益，主要来自哪里？

归母净利28.25亿元，扣非只有11.23亿元，差额17.03亿元，全部来自非经常性损益。拆开看，大头有两块：

一是，本期投资收益10.86亿元，主要包括出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生投资收益约9.53亿元。根据拓荆科技披露的股权信息显示，2026年一季度末，中微公司持有拓荆科技1912万股，股权占比6.77%；2026年7月1日，中微公司持有拓荆科技1778万股，股权占比降至6.12%。测算下来，减持均价达到711元/股左右。

二是，公司以公允价值计量且其变动计入当期损益的对外股权投资于2026年上半年产生公允价值变动收益和投资收益合计约10.29亿元，较2025年上半年的1.68亿元增加约8.61亿元。其中，公允价值变动收益为9.921亿元，主要包括其他非流动金融资产经评估师事务所评估产生公允价值变动收益9.927亿元。