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  • 中微公司H1净利28亿元,扣非后仅为11亿元
    8月20日,中微公司交出2026年半年报:上半年营收66.91亿元,同比增长34.89%;归母净利润28.25亿元,同比暴增300.22%。 单看这两个数字,是科创板设备龙头的漂亮答卷。但把扣非归母净利润拎出来,只有11.23亿元,同比增108.36%。 归母净利与扣非净利之间,隔着一道17.03亿元的非经常性损益。换句话说,报表上28.25亿元的利润里,约六成来自卖股票和股权投资估值上涨。 我们
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  • 台风资讯|HFCVD——大尺寸金刚石薄膜沉积
    在半导体散热、精密制造、高端激光等领域,金刚石薄膜凭借高热导率、耐磨、耐腐蚀、电化学稳定等优异性能,成为不可或缺的功能材料。其中,大尺寸金刚石薄膜是实现规模化工业应用的关键,而HFCVD热丝化学气相沉积技术,正是目前制备大尺寸金刚石薄膜最主流、最高效的工业化方案。 为什么大尺寸金刚石薄膜是实现规模化工业应用的关键? 天然金刚石产量稀少、尺寸极小、杂质不可控,无法满足工业化批量应用。而人工制备的大尺
  • 【海翔科技】泛林半导体 Lam Research Striker® 系列 二手薄膜沉积CVD设备
    一、引言 在半导体先进封装与高端逻辑芯片制造的薄膜沉积环节,化学气相沉积(CVD)设备是实现器件高密度集成与性能跃升的核心支撑,尤其在硅通孔(TSV)互连结构、金属间介质层及钝化层制备中发挥不可替代的作用。泛林半导体(Lam Research)作为全球半导体设备龙头企业,其Striker®系列CVD设备凭借超保形性沉积、低缺陷薄膜制备等核心优势,已成为高端晶圆厂与先进封装企业的标杆级装备,广泛应用
  • 【海翔科技】泛林半导体 Lam Research Concept Two 系列 二手薄膜沉积CVD设
    在半导体先进制程与高端存储器件制造的薄膜沉积环节,化学气相沉积(CVD)设备是实现器件微型化与性能提升的核心支撑,尤其在3D NAND存储堆叠结构、先进逻辑芯片金属间介质层制备中发挥不可替代的作用。泛林半导体(Lam Research)作为全球半导体设备龙头企业,其Concept Two系列CVD设备凭借超高深宽比填充能力、低应力薄膜沉积等核心优势,已成为高端晶圆厂的关键制程装备,广泛应用于1X/
  • 六家国产半导体薄膜沉积设备上市企业25Q1市场表现分析
    在晶圆制造的全过程中,薄膜扮演着多重关键角色,如形成导电层或绝缘层、阻挡污染物和杂质渗透、提高吸光率以及临时阻挡刻蚀等。随着芯片制造工艺日益精密化,对薄膜的工艺性能提出了更为严苛的技术标准,涵盖了薄膜厚度、均匀性、光学系数、机械应力及颗粒度等关键指标。市场对高性能薄膜设备的依赖因此逐步加深,这极大地拉动了半导体高端薄膜设备的市场需求。
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