存储大厂将导入EUV光刻技术！

SK海力士正积极推进高数值孔径EUV光刻技术（High NA EUV）的引入和量产，这项下一代光刻设备计划于2028年前应用于其DRAM制造工艺。

据业内人士9月8日透露，SK海力士的目标是在2028年前将高数值孔径EUV光刻技术应用于DRAM量产。该公司还在考虑加入由台积电牵头的“大尺寸掩模联盟”。

高数值孔径EUV光刻技术是一种下一代光刻设备，它通过采用比传统EUV更大的数值孔径（NA），显著提高了分辨率。由于它能够实现目前最精细的电路图案，因此有望在缩小线宽和提高集成密度方面发挥关键作用。

对于半导体制造商而言，推进微工艺技术至关重要，这有助于提高生产效率和产品性能。这是因为电路实现的精度越高，每片晶圆的芯片产量就越高，从而同时提升能效和性能。自2021年首次将EUV光刻技术应用于其10nm级第四代（1Anm）DRAM以来，SK海力士一直在拓展EUV技术在尖端DRAM制造领域的应用。

SK海力士计划通过简化现有EUV工艺，并引入新一代光刻设备加速下一代存储器的研发，从而在保证产品性能和成本竞争力的同时，实现这一目标。

SK海力士也在考虑加入由台积电和荷兰半导体光刻设备公司ASML共同发起的“大尺寸光刻掩模联盟”。

“大尺寸光刻掩模联盟”是一个旨在推动半导体光刻设备从目前使用的6英寸光刻掩模过渡到12英寸光刻掩模的咨询机构。该计划旨在共同监测与光刻设备和光掩模相关的全球技术趋势，并开展联合研究和标准制定等合作活动，以期开发出12英寸光掩模。三星电子也决定加入该联盟。

韩中工商联盟总会成立于2008年7月20日，由韩国山东商会更名，成员包括中韩两国企业家、政治家、科研专家学者共同发起成立的国际性经贸合作组织。

总会旨在推动中韩两国在经济、科技与产业领域的深度合作与交流，致力于打造高层次、多维度的国际合作平台，促进资源整合与产业协同发展。

在重点发展领域方面，总会积极布局高科技产业板块，涵盖生物医药、人工智能（AI）、半导体与存储等前沿领域。围绕三星电子与SK海力士等全球领先企业的产业资源，推动内存、芯片及相关技术的合作与流通，并协同中国区域内的授权代理公司与供应链体系，设立AI存储专委会，促进中韩半导体产业的高效对接与合规发展。

同时，总会广泛汇聚中韩两国在企业、科研、金融及产业界的优质资源，为会员单位提供政策对接、项目孵化、产业落地及跨境合作等全方位支持，持续提升中韩经贸合作的深度与广度。

韩中工商联盟总会旗下芯枢科技有限公司（CoreHub Limited）、芯枢科技（北京）有限公司是立足于香港的半导体存储供应链平台型企业，致力于在全球范围内整合存储芯片资源、优化流通路径并提升产业链配置效率。依托香港作为国际金融、贸易与结算中心的独特优势，公司连接上游核心供应资源与下游关键应用市场，在复杂多变的全球半导体环境中构建稳定、高效且具备前瞻性的流通体系。CoreHub 不仅专注于存储产品的分销与供应，更以平台化思维重塑产业协同方式，通过资源整合、结构优化与价值再分配，逐步形成覆盖多区域、多层级的供应链网络，致力于成为连接产业资源与市场需求的关键枢纽，在全球数字经济与算力时代中发挥长期而持续的基础性作用。

韩中工商联盟总会AI存储专委会委员长、芯枢科技负责人 林美炳

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