国产光刻机要来了？了解高科技，全靠自媒体？

原标题：了解高科技，全靠自媒体？

入秋以来，新闻不断。

先是华为Mate60手机发布引来的新闻大爆炸，各种猜测，各种分析，自媒体变着花样去报道，只是为流量。

为了继续获取流量，编造出来一个国产光刻机工厂，标题很醒目：国产光刻机似乎真的要来了！

文章里讲的有鼻子有眼，提到国产光刻机不同于ASML的单体光刻机，咱们采用的是加速器流水线的方式产生极紫外光源，再分配给流片设备，最终生产出目标制程的芯片。

还简单做了解释：所谓的光掩膜光刻技术，就是用超级稳定、超高频率（能量）的极紫外光，在硅片上刻出晶体管电路图。这个极紫外光，你理解成刻刀就行，稳定性代表了刀的硬度，频率代表了锋利度，越稳定频率越高，在有限面积上就越能雕刻出性能更高的芯片。

通俗易懂，文字里透出专业，让行业外人看了好像真的一样。

为了让大家更容易相信，也认同一下ASML很厉害，介绍说ASML的厉害在于可以在几米的空间内，将极紫外光的波长压缩至4nm，甚至更低，而且非常稳定。并且说ASML把机器做得这么小，也是为了方便能装进集装箱，毕竟它的市场主要在海外，便于低成本运输也是一项关键指标。

话锋一转，进一步解释中国不是做不出牛逼的光源来，而是无法像ASML那样小型化，这里面既有技术基础的问题，也有被制裁无法买到超高精度镜片的因素。然后告诉大家，做光刻机要的是目标光源，而不是那台机器。既然无法小型化，那么就搞个光刻机工厂，同频率的极紫外光柱，再用分光镜细分给几十台光刻机，搞定。牛逼，不牛逼？

为了光刻机知识普及和扫盲，打个了形象比喻：ASML生产的枪精度高，可以在100米外命中10环；中国无法生产这么高精度的枪，那就造个100米长的炮管，直接怼到10环上打。于是，就有了这种“著名”的国产光刻机知识图片。真不知道谁这么无聊，忽悠啥不好，忽悠到光刻机来了。有这个智商，还有什么不能忽悠的。

估计是实在看不下去了，中国电子工程设计院有限公司（下称中国电子院）9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS），坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，早在2019年就开始建设，并将于2025年底投入使用。也不是各大视频平台疯传的，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。

接着就是今天的热门信息，昨晚在群里就看到了，然后大家开始热论。

然后群里有人补充信息，提到是高通裁撤中国Wi-Fi芯片团队。

没有高通官方的公布，或者内部确定的信息，或者来自靠谱的猎头公司信息，所有的捕风捉影都是不对的。

自媒体的底线是力求真实。

今天就看了各种自媒体在报道高通裁员，各种各样的嗨。还有自媒体表示，高通的裁撤是国产芯片的胜利。高通是谁？高通是全球无线通讯芯片老大。

别忘了，很多创业公司介绍团队的时候，会说核心人员来自高通。别忘了，芯片技术是不断向前发展的，国产芯片还是跟在人家后面。

今天下午，朋友发来信息，确定了高通裁员，主要裁的是原来Athero部门，主力已经移回以色列和美国本土（需要再确认）。

如果是自媒体来做芯片，中国芯片一定是宇宙第一。而对我们这些做芯片的人来说，做好芯片很难，把芯片技术领先更是难上加难。

但我们别无选择，既然时代赋予了我们使命，那就沉下心来做芯片，做好芯片，知难而上。