烧结银膏作为一种高导热、低温兼容、高可靠性的先进电子封装材料,在硅光技术Silicon Photonics和电吸收调制激光器EML(Electro-absorption Modulated Laser)技术中发挥着关键作用,尤其针对两者共同面临的高功率密度散热瓶颈、温度敏感元件保护及长期可靠性等核心问题提供了创新解决方案。
一、 硅光技术
硅光技术核心痛点:光、电、热耦合、低损耗、低温兼容、高密度集成;烧结银是 400G/800G/1.6T/3.2T光模块的关键材料。
一)核心应用场景
超薄互连层≤1 μm,插入损耗< 0.1dB,避免传统焊接的界面反射
纳米烧结银膏实现亚微米级对准,支撑1.6Tbps相干光引擎
2、硅光芯片与驱动IC/DSP/激光器共封装CPO/CoWoS
AS9335低温无压150℃烧结,兼容硅基与光学敏感元件
热导率150W/m·K,散热效率提升3倍,功耗降20%
微间距互连,信号延迟25%,良率至98%
3、热界面材料TIM与基板互连
替代传统焊料,热阻低至0.08–0.12 ℃·cm/W
抗热循环>1000次,适配数据中心长期高负载
4、激光雷达LiDAR光学模组集成
硅光芯片与 MEMS/透镜/探测器无损互连,提升测距精度
二)烧结银膏在硅光技术中的应用
硅光芯片技术通过将光电器件如激光器、调制器、探测器与硅基电路集成,实现高速光通信,但其高集成度与硅材料的热光耦合效应导致热积累成为制约性能的关键因素。
1、解决硅光芯片的热致信号失真问题
硅光芯片中的氮化硅光波导与硅的热膨胀系数不匹配,高温会导致波导结构变形,进而引发折射率漂移,影响光信号传输效率。
烧结银膏的高导热性,导热系数可达140-300 W/m·K,是传统焊料的3-6倍为其提供了高效的散热路径。例如:
在1.6T光模块中,采用AS9335烧结银膏封装硅光芯片,可将芯片结温从传统焊料的85℃降至60℃以下,抑制了热致波导折射率漂移,使光信号误码率从10⁻⁶改善至10⁻¹⁵以下。
在CoWoP(Chip-on-Wafer-on-PCB,芯片-晶圆-PCB)封装中,烧结银膏把硅光芯片与驱动IC的热量快速传导至PCB散热结构,解决了500W/cm²以上高功率密度下的热积累问题,保障了器件长期稳定性。
2、低温工艺兼容,保护敏感光学元件
硅光芯片中的波导、铌酸锂LiNbO₃调制器等光学元件对温度极为敏感,调制器的工作温度需控制在-40℃~+85℃,传统高温焊料烧结温度>220℃会导致元件热损伤。
烧结银膏AS系列的低温无压烧结特性,烧结温度150-200℃,无压工艺甚至低至130℃,完美解决了这一问题:
例如,AS9338无压烧结银膏采用130℃低温烧结,无需高压设备,避免了对硅光芯片中敏感光学元件的热应力损伤,同时支持与柔性基板如聚酰亚胺的集成,适用于可穿戴光通信设备等新兴场景。
3、支撑硅光技术的高密度集成与小型化
硅光技术向1.6T及以上高速光模块演进时,需实现10μm级线宽/线距的高密度互连,传统焊料的热膨胀与低可靠性难以满足需求。
烧结银膏的高可靠性与高密度互连能力,支持3D堆叠和HBM高带宽内存集成,支撑了硅光芯片的3D异构集成:
在英伟达H100 GPU的硅光集成方案中,采用烧结银膏替代传统ABF基板,使模块厚度减少30%,同时算力密度提升60TOPS/mm³,散热效率提高3倍。
二、电吸收调制激光器技术EML(Electro-absorption Modulated Laser)
EML是高速光模块400G/800G/1.6T主流光源,痛点:窄线宽、低噪声、高散热、低温兼容、高可靠。
一)核心应用场景
1、EML芯片与热沉和基板互连
低热阻≈0.1 ℃.cm/W,抑制芯片结温漂移,线宽稳定性增加30%
无压低温(150–180℃),避免高温损伤量子阱结构
2、EML与硅光调制器和探测器混合集成
≤1μm超薄银层,高频寄生电感降低40%,支持56Gbaud以上信号
剪切强度>55MPa
3、半导体制冷TEC与EML热耦合
银膏高导热特性快速导走多余热量,TEC 功耗降15%,延长寿命
4、高速光模块(QSFP-DD/OSFP)封装
替代金锡焊料,成本降25–30%,良率至98%
二)烧结银膏在EML技术中的应用
EML是高速光通信中的核心光源如5G前传、数据中心光模块,其高功率密度如千瓦级激光巴条与持续高温工作环境导致散热与封装可靠性成为制约其性能的关键因素。
1、解决EML激光器的热崩溃问题
EML激光器的输出功率与结温密切相关,传统焊料导热系数太低无法满足50W/cm²高功率密度下的散热需求,易导致热崩溃即功率突然下降。
烧结银膏AS9376的超高导热性,导热系数可达281 W/m·K,是传统焊料的5倍,为其提供了高效的散热通道:
烧结银膏AS9335X用于千瓦级激光巴条封装,热流密度从传统的50W/cm²提升至80W/cm²,结温下降20℃,光电转换效率提升8%,波长稳定性精准至±0.02nm。
善仁新材的AS9376LS无压烧结银膏导热系数281 W/m·K,用于高功率EML激光器封装,可将芯片结温从传统焊料的90℃降至60℃以下,延长器件寿命50%以上。
2、高温可靠性:应对EML的持续高温工作
EML激光器在持续工作中,结温可达到100℃以上,传统焊料的低熔点与易老化无法满足长期可靠性需求。
烧结银膏的高温耐受性与高可靠性完美解决了这一问题:
例如,AS9376LS烧结银膏在模拟EML激光器150℃持续工作1000小时的工作环境中,剪切强度仍保持初始值的95%以上,而传统焊料的剪切强度下降至初始值的60%以下。
烧结银膏AS9335X在千瓦级激光巴条的实测中,经受10万次热循环后,剪切强度仍保持稳定,意味着激光器在矿山机械、航空航天等严苛场景中的寿命可延长3-5个服役周期。
3、提升EML的光电性能与稳定性
EML的波长稳定性是其用于高速光通信的关键指标,而热积累是导致波长漂移的主要原因。
烧结银膏的高效散热不仅降低了结温,还提升了EML的波长稳定性:
某头部激光厂商采用AS9376LS烧结银膏封装的EML激光器,波长稳定性从传统的±0.1nm提升至±0.02nm,满足了5G前传光模块25Gbps EML的严苛要求。
在数据中心光模块中,采用烧结银膏同时连接芯片上下表面的双面散热设计,热流密度从50W/cm²提升至80W/cm²,连续工作温度曲线呈现完美的水平直线,保障了数据传输的稳定性。
三、总结:烧结银膏的核心价值
烧结银膏在硅光技术与EML技术中的应用,本质是通过材料创新解决热-电-机械协同问题,其核心价值体现在:
1高导热性:解决高功率密度下的热积累问题,提升器件性能与寿命;
2低温兼容性:保护温度敏感元件硅光波导、EML调制器,避免热损伤;
3高可靠性:支撑器件的长期稳定运行,满足航空航天等严苛场景的需求;
4工艺简化:低温无压烧结降低了设备投资与工艺复杂度,适合大规模生产。
四 、未来趋势
随着硅光技术向3.2T及以上高速光模块、EML向10kW级激光巴条更高功率密度演进,烧结银膏的发展方向将聚焦:
1更高导热性:通过纳米银颗粒的定向排列与孔隙率控制,将导热系数提升至300 W/m·K以上;
2更低成本:通过规模化生产与原材料替代,降低烧结银膏的成本;
3更优工艺兼容性:开发与柔性基板、3D堆叠封装的更好适配性,支撑新兴场景如可穿戴光通信、人形机器人的应用。
综上,AS系列烧结银膏作为硅光技术与EML技术的核心封装材料,其应用不仅解决了当前的技术瓶颈,更为未来高速光通信、高功率激光器的发展奠定了基础。
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