ASML主流光刻机型号参数汇总

前一阵子，半导体行业的一个重大消息就是ASML向英特尔出货了第一台 NA值为0.55的EUV光刻机。当时这也多少在圈子里掀起一些波澜，但我当时忙于其它事情，一直没有顾上去整理相关数据最近两天在准备发布公众号新数据的时候，正考虑还能发啥，便想起了这个茬，于是便打开了ASML的官网...

事实上，ASML在最近一段时间里发布的新机器还不止这一款。在浸入式ArF光刻机领域，ASML也推出了产能更高（WPH 330）的1980Fi.所以我也一并收罗进表格里顺便说一下，对于最新的两个型号的EUV光刻机，ASML没有在官网上公布具体套刻精度数据，所以这个表格里我暂时只能先空白着了。希望大家理解。

不过按照其官网上的说法，最新型号的3800E设备的套刻精度（Overlay）相对之前的旧型号是有较大幅度提高的，而5000型号则没有具体提及，我个人估计应该和3800E差不多

以下表格数据全部来自ASML公司官网公布数据。如果又差异，因该是我个人手动摘录时的错误，请大家原谅