从“韬定律”与“0.7纳米芯片”谈起——逻辑和晶体管折叠路向何方
后摩尔时代,传统芯片性能提升路径逼近物理极限,急需架构革新和三维堆叠技术。华为提出的“韬(τ)定律”强调通过系统、芯片、电路、器件多层次协同优化,尤其是应用“逻辑折叠”技术,实现低时延、低能耗和高性能。IBM发布0.7nm埃米级工艺,采用NanoStack垂直晶体管堆叠架构,实现了晶体管密度翻倍,标志着三维堆叠进入埃米制程时代。国内原创的FFET倒装堆叠晶体管技术因其独特双面结构设计,展现出突出的技术潜力,为器件级三维堆叠提供了优质解决方案。FFET技术打破了传统单面器件架构的桎梏,为全层级三维集成提供了坚实器件支撑。随着这套技术体系不断完善,产业有望迈入器件、电路、芯片、系统协同立体演进的全三维时代。